
在生成式AI快速发展的当下,数据中心内计算集群间的通信容量需求呈爆发式增长。最新GPU系统预计将采用1.6Tb/s DR8(100GBaud PAM4×8通道)架构,而业界对3.2Tb/s传输能力的探索也愈发迫切。若通过增加通道数来实现3.2Tb/s收发器,会导致组件数量剧增和光纤并行难题,因此,200GBaud PAM4调制方式成为研究焦点——它可在不增加通道数的情况下使传输容量翻倍。
在此背景下,EML因可靠性高、尺寸紧凑、功耗低等优势,在高速数据中心中被广泛应用。三菱在高速EML领域也在持续研究,此前三菱提出了一款针对200GBaud PAM4的高速EML探索,如采用窄台面结构降低寄生电容以实现106GHz带宽,但存在制造流程复杂、寄生电感不稳定等问题。OFC 2025三菱报告:高速EML的结构设计和封装优化
为解决这些痛点,在ECOC 2025上,三菱提出了一款基于倒装键合flip chip技术的EML,并通过打线峰化设计将其带宽进一步提升至110GHz,为高速IM-DD(强度调制直接检测)应用提供了全新方案。
◆ flip chip封装EML的设计架构
该EML基于氮化铝(AlN)基板采用倒装焊集成,单芯片内整合了掩埋式DFB-LD(用于提供高光学输出功率)、电吸收调制器(EAM) 以及光斑转换器SSC(提升光纤耦合效率)。

在EAM区域,采用了高台面结构,并在光吸收层两侧设置低折射率包层,其台面宽度为1.4μm(与传统结构一致)。与传统EML电极分布不同,该设计将阳极和阴极电极均置于芯片表面,为倒装键合的实现创造了条件。

CoC基板选用AlN材料,其热导率高达170W/mK,同时集成薄膜终端电阻,使信号路径的寄生电感最小化(传统组装需在信号线与EAM焊盘间进行引线键合,寄生电感更大)。信号线路设计为55Ω特性阻抗,配合终端电阻实现阻抗匹配。为突破带宽瓶颈,团队创新性地引入峰化电路:将终端电阻与信号线断开,改用绑线连接,利用其随频率变化的阻抗特性产生峰化效应,大幅提升调制带宽。
◆ 热特性与直流性能解析
由于散热仅依赖金凸点,需对其热特性进行深入研究。通过数值模拟,团队构建了AlN基板上倒装键合EML的模型(AlN厚度500μm,搭载于0.95μm厚的CuW载体上,金凸点直径60μm、高度20μm),模拟了不同凸点数量下的激光温度变化。

当CuW载体背面设置55℃恒温边界条件时,对比传统正贴结构:在DFB-LD上设置两个凸点时,激光温度在200mW热耗下达到61.2℃,仅比传统正贴结构高4.4℃,说明倒装键合的热耗散能力虽略有下降,但可通过增加凸点数量优化(如6个凸点可实现与正贴结构相当的热耗散)。

在发光特性方面,对DFB-LD的I-L曲线和光谱测试显示:当LD电流为80mA、温度55℃时,未出现输出饱和或扭结现象,边模抑制比(SMSR)超过50dB,激射波长为1313.05nm。这表明倒装键合工艺未对激光器的激射特性造成显著劣化。
◆ 射频带宽与高速传输验证
小信号响应测试中,无峰化设计的样品3dB带宽约为66GHz,而引入峰化导线后,3dB带宽跃升至110GHz,创下倒装键合EML的带宽纪录。

为验证高速传输性能,团队搭建了113GBaud-PAM4的实验平台:输入信号由256GSa/s任意波形发生器(AWG)生成113GBaud PAM4 SSPRG信号,DFB-LD电流维持在100mA。输出信号经60GHz四阶贝塞尔-汤姆逊滤波器滤波后,由5抽头前馈均衡器(FFE)处理以评估TDECQ。

测试结果显示,在背靠背配置下,TDECQ为1.9dB,消光比(ER)为4.8dB;即便经过2km传输,TDECQ仍保持1.9dB,表明该EML在2km传输距离内几乎无性能损失。

◆ 技术总结
本研究报道了基于AlN基板的倒装键合EML,通过引入峰化设计,成功将3dB带宽从66GHz提升至110GHz。该EML在113GBaud-PAM4信号传输中(背靠背及2km传输场景)展现出优异的眼图性能,TDECQ稳定在1.9dB,消光比为4.8dB,为高速IM-DD应用提供了高带宽、低损耗的光学解决方案,有望推动3.2Tb/s乃至更高速率收发器的实用化进程。