根据最新的消息,除了华为被停止供货之外,国内的晶圆大厂的半导体进口也被停止。为改善这种情况,这次中国出钱,日本出力,或许在借力日本的“东风”下,非美国技术的光刻机将会突围。
光刻机的复杂程度
作为制造芯片的重要一环,光刻机的重要性不言而喻,而这也正是我国企业一直以来的薄弱地方。一台最先进的光刻机,由超过十万个零件构成,并且所需材料也是由多国进口,所以现在对我们来说,想要实现自主研发的光刻机,所要攻克的难关,不仅仅是要掌握技术,还要考虑各种零部件的购买。除了荷兰的ASML之外,光刻机领域还有很多巨头,只不过他们 一直相对低调而已。
借力日本“东风”
日本在上个世纪七八十年代的时候,半导体行业发展迅速,很多美国的技术都被日本带到了其国内。如果在这个基础上,日本想要通过模仿,然后再超越,成功的几率还是很大的,如果能够加上我国助力,这个几率还会提高很多。这次由我国的企业出钱,日本的佳能、尼康一起参与研发,将会对除了EUV以外的光刻机进行攻克。
总结
此次我国企业的举动,无疑是非常正确的,虽然我们也只提倡自主研发,但目前来看,光刻机想要实现自主研发并不现实,所以一定要找到对的合作伙伴,只有这样才能对我们起到助力效果。而在中日企业合作下,造出非美国技术的光刻机,也不再是难事。
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