前言:因芯片禁令的升级,我国半导体行业正在面临一场磨难,其中华为正是最大的受害者。当然了,如果我们能够攻克高端光刻机,必然会改善这一局面。所以,中国企业已经正式展开了反击。
据最新消息,中企计划出资,联合日本佳能以及尼康共同研发光刻机。可能许多人会问了,不是说要自主研发光刻机吗?为何突然选择和日企合作呢?
其实,自研光刻机比想象中的还要难,中国入局光刻机时间太短,相关技术太过于落后,短时间内实现崛起几乎不可能。所以,我们不如借助一下外力,尼康就是一个非常好的帮手。
说到光刻机,所有人都知道,ASML是高端光刻机领域的霸主,几乎垄断了全球市场。事实上,尼康曾经也是光刻机领域的霸主,ASML之所以能够击败尼康,有一部分原因就是美国技术的帮助。
最近,尼康传出消息,中国已有企业向尼康提出了投资意向,希望能够共同开发EUV工艺的光刻机设备。要知道,尼康并不甘心被ASML甩在身后,一直在寻找一个契机。
如果尼康坚持在EUV光刻技术上发力,可能很难超越ASML,所以,尼康正在准备“弯道超车”,试图在新型光刻机上超越ASML。如今,中企向尼康抛出了橄榄枝,自然得到了尼康的欢迎。
此时此刻的ASML或许风光无限,毕竟拥有着全球顶尖的光刻机技术,但未来谁都说不清。目前,越来越多的企业正在摒弃美国技术,要么自研,要么从其它企业采购光刻机,这对于ASML来说,可不是个好消息。
如今,大家都在期待,尼康与中国企业的合作,能否撼动ASML的全球垄断地位。
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