中芯国际不负众望，高端中国芯4月试产，ASML或将失去中国市场

前不久，中芯国际与荷兰ASML公司签订12亿美元光刻机采购订单，虽然梦寐以求的EUV光刻机不在订单之中，但是这并不妨碍他制造高端中国芯。

近日，据国内多家媒体报道，中芯国际自研的“N+1”芯片制程工艺已经成熟，4月即将进行试产。中芯国际这一技术的突破，对我国意味着什么呢？

随着5G时代的到来，信息数据将迎来一个爆炸式发展的时代，对芯片性能的要求越来越高。然而，由于美国对我国企业实行了芯片封锁，国内又无法独自制造出被誉为“工业粮食”的高端芯片，不少企业的发展由于芯片短缺而陷入停滞，提升国内半导体行业的整体水平成为了我们当务之急。

众所周知，芯片制造分为设计、制造、封装测试等几个步骤，我国在芯片设计、封装测试方面已达到世界顶级水准，芯片制程工艺也是名列前茅。那么，为什么我国还无法制造出高端芯片呢？

任正非曾表示，我国虽然拥有着世界顶级的芯片设计能力，掌握着世界上最先进的芯片制程工艺，由于光刻机被卡了脖子，导致我们无法独自制造国内企业发展所需的高端芯片。

或许不少人心中有个疑惑，几十年前，我国原子弹都炸响原子弹，现在为何造不出高端光刻机呢？真的比原子弹还难造吗？答案是肯定的，真的比原子弹难造！

ASML公司副总裁曾表示，半导体光刻技术是终极点金术，可以把沙子变成了金子。EUV光刻机以紫外光作“铅笔”，将事先设计好的芯片线路图涂画到硅晶圆旋涂的光刻胶上，精度可以达到5nm级，也就是头发丝千分之一大小的精度。

EUV光刻机之所以难以制造，不但紫外光技术很难被掌握，而且所需的元器件数量高达10万件，而且每件都代表着业内的最高水准，遗憾的是，ASML公司制造EUV光刻机所用的元器件没有一件是由我国企业提供的，我们制造EUV光刻机的难度可想而知。

为了发展高端“中国芯”，中芯国际早在2018年就向ASML公司订购了一台EUV光刻机，然而，由于美国从中作梗，ASML公司至今仍未交付。难道没有EUV光刻机，我们就不发展高端芯片吗？答案是肯定的，随着美国不断加大对我们的技术封锁，制造高端“中国芯”势在必行！

为了绕过EUV光刻机，中芯国际另辟蹊径，研发“N+X”芯片制程工艺。所谓的“N+X”芯片制程工艺，就是通过多重曝光和一些特殊工艺，实现高端芯片在DUV光刻机上的量产，目前，第一代“N+X”芯片制程工艺已经成熟，完全可以媲美传统的7nm芯片制程工艺，且将在几天后进行试产。

不少业内人士表示，随着中芯国际N+X”芯片制程工艺的不断成熟，不但ASML公司将会逐步失去中国光刻机市场，美国也将会因对中国企业进行芯片封锁而付出惨重的代价。

值得一提的是，据美国半导体协会公布的最新报告数据显示，自对中国企业进行芯片封锁后，美半导体企业所遭受的经济损失已经超过了1.5万亿元，并且超过30％的企业因此而倒闭，造成了大量人员的失业。除此之外，美半导体协会还明确表示，如果不停止对中国企业的打压，所带来的严重后果是美国所不能承受的。

随着我国科技的崛起，美国不断加大打压我国高新技术企业的力度，让我们逐步意识到自研的重要性，为了促进国内半导体行业的发展，工信部甚至撂下了“能给尽给，应给尽给”的狠话。

笔者坚信，在国家的支持下，科研人员的努力下，我们必定能攻克技术难关，打破封锁，让科技推动我国的发展，人民过上更加富裕的生活。