终于坐不住了！中企行动后，ASML再次官宣，美国却惨遭“抛弃”

光刻机之重

在芯片制造中有一个非常重要的环节，光刻，据悉光刻在整个芯片生产流程中占据到了30%到40%，而在光刻过程中光刻机的精度往往又决定了芯片的性能和功耗，所以高精度的光刻机生产成为了半导体行业中最关键的一环。

而到目前为止，全球光刻机发展的最巅峰水准停留在5nm上，全球也仅有ASML一家公司可以生产出如此高质量的光刻机，因此，ASML公司在高精度光刻机领域基本上呈现出垄断发展局面，因为抛开了ASML的光刻机，根本无法造出10nm制程以下的芯片。

也正是因为这个原因，美国在阻碍我国芯片事业发展的过程中，直接利用其技术上游的优势，勒令ASML公司禁止出口7nm精度的EUV光刻机给我国的中芯国际，致使当下中芯国际芯片制程水平还停留在14nm上。

受限于美国对光刻机的封锁，让我国芯片制造行业深刻认识到了光刻机之重，于是开始大举投入到光刻机的突破之中。

ASML表态

首先是在9月16日，中国科学院院长白春礼对外发布讲话表示，未来中科院将会把光刻机等一些核心技术列入科研清单，集中全院力量来攻克这些技术。

而在中科院发话后，ASML公司就紧随其后，在9月17日公开对外官宣，ASML将加快在中国市场的布局。

ASML公司的这轮表态虽然没有什么实质性的意义，但是却表现出了对我国科研实力的一种忧虑，毕竟我国的中科院可是多次创造奇迹，打破外界技术封锁，而一旦中科院在光刻机领域获得大突破，那么ASML一家独大的局面将顷刻间被瓦解。

终于坐不住了

而在中科院加码光刻机技术之后，10月13日日媒方面传来一则消息，中国企业开始行动了，业界有关人士表示，中国企业拟向日本佳能和尼康提供资金，要求共同开发除EUV之外的新型光刻机。

这也就是说，我国在光刻机领域正在多方布局，而佳能和尼康作为老牌的光刻机巨头，虽然在EUV光刻机领域无法和ASML相提并论，但是在DUV光刻机领域还是非常有实力的，我国企业找他们合作，相信能够在短时间内获得不含美国技术的DUV光刻机。

此消息一出，ASML终于是坐不住了，10月15日ASML公司再次官宣表示，该公司的DUV光刻系统无需美国许可就可以对我国出口。

这话一出，在一定程度上就算是美国惨遭ASML公司“抛弃”了，细想一年之前，美国对我国企业发布实体清单，中芯国际需要进口ASML光刻机之时，ASML公司可是没有这么表明立场的告诉我国可以进口DUV光刻机，现在的态度却突然来了个大反转。

总结

第一次ASML公司的表态没有第二次这么迫切是因为ASML公司认为技术性的突破短时间是无法完成的，所以ASML公司依旧按照明面上美国的限制行动。

但是随着第二次我国企业找快速破局方案后，ASML公司担心佳能、尼康的入场会严重影响其在全球光刻机市场的地位，才会对我国有了新态度。

不过想要真正让ASML公司态度彻底翻转，那么我国必须打造出EUV光刻机。

你觉得一旦我国掌握EUV光刻机技术，ASML届时又会是一种什么态度呢？