中国光刻机已突破7nm？荷兰垄断30年的技术，中国几年就攻破了

我想你们应该也听说了美国针对华为的芯片禁令的事情，因为华为的飞速发展，已经是惹得美国开始忌惮起华为了，毕竟华为在多个领域打破了美国的技术垄断，如今更是在美国的“基本盘”半导体芯片领域打破垄断，这就使得美国也是开始慌了。

所以美国才会迫不及待地想要打击中国华为，毕竟美国也不希望华为成长起来之后抢走了美国的市场份额。而芯片禁令最大的影响因素其实并不是在芯片上，而是在制造芯片的光刻机上。我国就是因为光刻机实力不行，所以华为受到压制，芯片供应被切断。

也正是因为美国的芯片禁令才一下子暴露出这个巨大的问题，使中国人重新认识了芯片并了解了光刻机。并且在芯片禁令的巨大压力之下，中国迅速反应过来，将光刻机技术的研发提上日程。如今，中国光刻机已突破7nm？荷兰垄断30年的技术，中国几年就攻破了！

中芯国际传来的好消息，中芯国际自行开发的N+1技术实现准7nm芯片制造。荷兰asml花费了近30年的时间才打造下如今的光刻机“帝国”，但是我们国家中芯国际只花费了几年的时间，就已经是突破到7nm制程。

而且这还是在美国等西方国家的打压制裁之中研发出来的技术，当然，我也承认，中芯国际的N+1工艺与荷兰ASML的EUV光刻机相比还有差距，但是也只是相差一代而已，路要一步一步走，我们这个时候也不能操之过急，反正肯定是能够追的上的。

如今更重要的应该是稳扎稳打，将光刻机技术完全本土化，这样就不会被美国他们个卡脖子了，只有自己掌握核心技术，才能够在和美国这些科技实力强大的西方国家的对抗中不弱下风，期待中国光刻机正式崛起的那一天。