中国光刻机比ASML起步早20年，为何现在落后至少10年？

光刻机这一两年以来，提的特别多，因为这是芯片制造中必不可少，且相当重要的一种设备，关键是这种设备技术，国内非常落后，还停留在90nm的工艺节点阶段。而最先进的ASML已经达到了5nm，这中间的差距至少是10年以上。

很多人认为，这是中国光刻机起步晚原因引起的，而这种高科技产品，很多时候是一步落后，就步步落后的，但真的是如此么？

事实上，中国在20世纪60年代，就开始研发光刻机了，在1965年的时候，中国科学院就已经研制出了65型接触式光刻机。

而在70年代初，中国科学院开始研制计算机辅助光刻掩模工艺。近日网上还曝光了1972年，由武汉无线电元件三厂编写的《光刻掩模版的制造》，证明在1972年就已经拥有了一定的光刻机技术。

而从资料上还可以查到，在1980年的时候，清华大学研制成功的光刻机，精度能够达到3微米，接近国际主流水平……

而生产光刻机的ASML成立时间是1984年，由荷兰飞利浦公司与一家荷兰芯片设备代理商ASML合资成立，那时候中国的光刻机技术已经领先ASML很多年了，差不多是20年。

那么为何中国光刻机起步比ASML早20年，最终却是今天这种情况呢？这和当时的内部、外部环境有关。

大家要注意一个时间点，那就是中美两国于1979年1月1日正式建交，从那时候开始，两国正式进入交流合作的新时代。

而美国当时在芯片、半导体、光刻机、计算机、软件、操作系统等领域是领先的，而当时美国也愿意将很多技术、设备、产品等输出给中国。

所以在当时有一种声音，那就是在科技领域，“造不如买，买不如租”，先借助美国力量，发展经济，先不要投入大量的资金来研发，毕竟当时才改革开放，又经历了10年特殊时期，经济实力有限，先借别人力量，等经济发展上来了， 再来自己研发实现赶超。

所以在80年代，一大批的科研项目停了，光刻机就是其中一项，还有像长城/曙光大型计算机项目、数字焊接系统等等，都在那时候停了，从国外买或租。

而直到21世纪，国内才又重新启动众多的高精尖的科研项目，汉芯也是21世纪初发生的，龙芯也是2000年才开始立项调研，而像国内最牛的光刻机厂商，上海微电子是2002年的才成立的。

所以别看中国光刻机起步早，比ASML似乎早了20年，但中间停了近20年，也相当于其实落后了近20年，最终导致现在的结果是落后了10多年以上。