好消息！我国新型光刻设备问世，解决多项被国外“卡脖子”技术！

芯片作为5G的“心脏”，在未来必然成为全球高端科技的大脑，而在芯片制造领域，我国一直被外国企业和科技“卡脖子”，特别是在高端芯片制造方面，我国由于“入行”时间尚短，加之全球先进的芯片光刻机生产也是集合了全球的技术，并非一国能够完成，而我国要靠一己之力完成全球科技集中才能研发出来的光刻机，必然不是短时间内能完成的。但是，我国的芯片制造技术一直在努力向前，我国科研工作者奋战在一线，日以继夜的工作，终于传来了好消息！我国最新型光刻设备问世，解决了多项被国外“卡脖子”的技术！

据IT之家7月28日报道，我国著名科技集团，苏大维格科技官方宣布，大型紫外3D直写光刻设备iGrapher3000目前正式下线并开始投入到工业运行。据苏大维格科技表示，iGrapher3000是一款主要应用于大基板上的微纳结构形貌的3D光刻，是先进光电子器件的设计和制造、最新型材料的研发和制造的最新平台，堪称是光电子产业的基础性装备，这项技术的突破为产业间的合作创造了全新的机遇。

据了解，在传统芯片制造领域，光刻机分为两种类型：其一种是投影光刻机，这种光刻机是在硅片上将将光掩模图形缩微并光刻上去，从而制备集成电路图形，这种光刻机目前以日本的Nikon投影光刻机为代表。第二种则是直写光刻机，这种光刻机主要用在0.25微米和以上节点的芯片以及0.18微米节点和以下的光掩模版制备，而这种光刻机就是以美国应用材料公司的ALTA 光刻机和瑞典的Mycronic公司Prexision10激光直写光刻系统为代表！

在苏大维格的浦东林博士带领下，科研人员经过十多年的刻苦钻研，经过多轮迭代更替，不断从失败中吸取教训，终于攻克了3D光刻的重大瓶颈，研制成功了以这款iGrapher3000为代表的系列紫外3D直写光刻装备，并且得以在工业界得到普遍应用。对于这样的贡献，在今年初的国家科技奖励大会上，荣获国家科技进步奖二等奖！