苏大维格：微纳光刻机打造业绩基础，多方布局终现盈利曙光

近年来，光刻机领域研发一直是国内科技突破重点方向，从光刻机应用场景划分来看，除制造芯片外，还有用于光电子材料和器件制备的设备。

苏大维格（300331）此前公开表示，公司研制的光刻机主要用于光电子材料和器件的制备。未来苏大维格将根据光电产业的发展需要，持续进行光刻技术和光刻设备的更新迭代。而且公司在去年三季度进行的导光产品产能扩建为今年的需求增长做好了产能准备，目前产能基本能满足订单需求。

微纳光刻机构筑业绩壁垒

苏大维格研制的光刻机为微纳光刻机，微纳光刻机可在微纳米尺度下，利用材料结构的光学特性，设计、制造出光学器件。

苏大维格作为国内少有的自主掌握微纳光刻机生产技术的企业，其他的光学企业基本都需要通过外购来满足生产需要。公司通过掌握微纳光刻机的研发生产，建立了以光刻机为平台基础的业务体系。

具体来看，苏大维格以光刻机为基础的同时推出多个系列的压印设备，通过光刻机自制微纳结构模具，再通过压印的方式使基材表面最后形成微纳结构。公司掌握了从光刻机生产、到模具制造、再到材料成型的完整的工艺链。自制原版能够有效缩短设计、试样、批量化的周期，确保产品质量稳定，为公司的发展提供了有力支撑。

回顾苏大维格光刻机研制历程，在2016年以前，公司主营微纳光学产品及设备。在2016年收购了常州华日升材料公司后，又单独开辟了反光材料业务。2018年，公司确立了公共安全和新型印材、消费电子新材料（原显示材料和触控）、反光材料、高端智能装备四大事业群。

目前公司主要有五大产品业务，分别为防伪材料与镭射纸，新型显示光学材料，中大尺寸触控产品，反光材料以及设备。

3D裸眼、AR纳米光栅波导镜片双腿并行

虽然设计微纳结构、原理复杂，但是苏大维格已经并且围绕纳米光栅光波导镜片布局了大量专利。而且公司依靠微纳光刻机的生产研发，已经成功开拓AR纳米光栅波导镜片领域。就目前技术而言，纳米光栅光波导镜片是AR眼镜体积外观轻巧化的不二之选。

AR眼镜的特点是使用者眼前的世界是“半真半假”，即既包括真实世界，又包括虚拟世界，二者互相“增强”。按照光波导方式可以分为几何光波导、衍射式光波导两类。

具体来看，几何式光波导采用传统光学器件来完成光波导过程，如棱镜、“半透半反”镜面阵列，优点是原理简单、没有涉及微纳米级结构，缺点是工艺繁琐冗杂，在量产上难度较大。而衍射式光波导镜片，通过微纳米光栅来进行光波导过程，所有操作都在微纳结构的平面上实现，节省空间。

苏大维格在微纳领域的技术成就，还为公司切入裸眼3D显示领域打下坚实基础。公司借助纳米光栅、导光板的优势，经过几年的不断努力，将全息显示与纳米制造技术结合，制作了由像素型纳米光栅组成的超颖材料用于实现光场调控，将其与液晶或其他显示屏幕结合，实现了大视场、全视差、高分辨率的动态彩色裸眼3D显示。

以目前科技发展而言，苏大维格掌握的裸眼3D技术可颠覆基于柱状透镜阵列或视差屏障法的裸眼3D显示技术，解决其视疲劳问题，实现裸眼光场再现。伴随公司各项布局逐渐落地，苏大维格未来业绩值得市场期待。