不受美控制euv光刻机替代设备NIL出现，国产高端芯片不再是梦！

中美高科技展已经进入了白热化阶段，美国为了防止中国超过美国，保持自己的技术垄断优势，美国不允许自己国内和日本，韩国，荷兰向中国出口芯片的高端生产设备，特别是生产高端芯片的euU和DuV光刻机。离开了荷兰的极紫外光刻机euv和duv，是无法生产芯片的，从13号开始，这已经成为了过去。

据新闻媒体报道，日本公司佳能在13号发布了一款纳米压印光刻机器（NIL），日本的这台新机器可以不使用光刻机直接生产最低到五纳米的工艺节点的零件，如果技术升级，进一步研究可以生产两纳米的芯片。日本这一新机器的研发成功，让日本佳能的纳米压印光刻机器与荷兰的euv形成了竞争态势，日本的佳能Nil技术不依赖euv应用中使用的复杂光学器件或者镜子，可以绕过美国对向中国出口高端芯片制造设备的现有限制，这对中国来说是一个好消息。虽然日本在美国的要求下也对中国发出了芯片禁令，芯片生产制造设备禁止向中国出口，但是日本既然能够研发成功，我们中国有理由不去研发吗？中国的科学家和中国人难道没有美国人和日本人聪明吗？华为可是有十几万的工程技术人员，每年几百亿的投入，只要华为和中国把全部力量集中于这一领域的研发，成功是早晚的事。说不定华为这次7纳米5G手机的生产，就是由中国自己生产的这类设备生产的。摆脱美国芯片技术对中国的控制指日可待，已经不再是遥远的梦。

就如美国半导体行业人士担心的那样，美国封锁中国，只会让中国走一条与美国不同标准的路，中国的通讯产业的发展是不可阻挡的。日本已经研发出了不使用光刻机就能够生产高端芯片的机器，打断了荷兰公司的高端芯片领域生产机器的垄断，就是一个很好的例证。荷兰对光刻机的垄断，就像美国对通信技术的垄断一样，原来只有他们能够生产出售，可以生产高端芯片的机器euv和duv，现在人们又多了另一条选择！