在中美日益激烈的科技竞争环境下,每当我们提到芯片,大家都会想到光刻机,由于光刻机属于精密设备,光刻机巨头ASML曾一度放出豪言“即便公开图纸,其他人也没办法制造出来”,可以说光刻机的研发、制造非常复杂,所以光刻机在芯片制造过程中占据着重要的位置。
近两年国产IT产业的发展已步入到了“快车道”,在需要大量芯片作为支撑的情况下,却引起了西方的“频频照顾”,尤其像华为这样的能只身孤影在全球多项科技领域崭露头角的企业,在科技对抗中遭到了美国的重点关注, 导致华为陷入“芯片危机”。
在我们为华为鸣不平的同时,我们也看到了华为对西方芯片垄断所作出的反抗,不仅继续坚持对芯片的自主研发,更是宣布全面扎根半导体,突破光刻机等方面的瓶颈,从而解决芯片制造的问题,除此之外,国内最高科研机构中科院也宣布集全院力量解决光刻机的难题,之后国内掀起了一股“造芯潮”!
华为走了一步险棋
但华为并没有“佛系”的等待高端光刻机的诞生,而是走了一步“险棋”。2月2日,华为公开了一项芯片专利,即光计算芯片、系统及数据处理技术。经常关注芯片的网友也许都知道,由于摩尔定律的缘故,提升信息处理和运算工作的载体,尤其在传统的芯片领域,其存储密度和运算速度将达到物理瓶颈,在这种背景下,寻找新的载体,不仅有可能让国产芯片实现弯道超车,更能打造出更强的芯片。
什么是光芯片?
所谓光芯片,就是利用半导体发光,结合光的抗干扰性强、传播速度快等特性,从而驱动其他硅光子器件,最后形成一个可以完成大型综合计算的芯片,并且在工艺方面不依赖ASML的高端光刻机,据业内人士表示,光芯片与传统芯片相比存在两大优势:运算速度提升了50%左右;功耗降低至原来的100%左右。
其实关于华为光芯片专利的公布,早有端倪,今年1月,俄媒引用ASML曝光的内容,表示华为已经着手开始打造光芯片,并且为避免美国干扰华为的光芯片计划,华为、国内光刻机企业、芯片制造企业纷纷将美国注意力转移到了光刻机领域,俄媒体表示“这就是中国智慧”!
不过,从宏观角度来讲,发展光芯片、石墨烯芯片是大势所趋。在传统芯片领域,西方占据着绝对优势,为避免国产芯片未来再一次被西方卡脖子,华为加速申请、公布光芯片专利,也是希望能在未来光芯片领域占领市场先机,做到未雨绸缪!不难看出,任正非确实有远见,国产芯片在光芯片领域弯道超车将成为大概率事件!
关于华为公开的光芯片专利技术,大家怎么看?
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