如果现在问你,中国如今在大力突破的首要科技产品是什么?肯定有很多人会说光刻机与芯片,而确实在这数年时间里,光刻机与芯片成为了人尽皆知的一个科技难题,光刻机实在是太难造了,甚至美国人说即使有光刻机的图纸,中国人也造不出来。
这句话或许还可能是真的,即使有了设计图纸,但是光刻机的一些重要零件,比如镜头光源光刻胶等等都无法拿到最顶级的,而且光刻机的运行参数时间等等都也是一个问题,那么芯片与光刻机依旧是存在的难题,难道是因为人才都向“钱”看了?
首先我们要先知道,中国现在如今最顶尖的芯片工艺大概在14纳米制程,还是依靠荷兰阿斯麦的DUV光刻机制成的,虽然说在前阵子出现的N+1的芯片,但是在量产问题上依旧还是很大的,光刻机的问题更是迟迟没有得到相应的突破。
并有网友提出了,可能是因为人才的缺失问题,甚至还有人说,因为那些科研人才都向“钱”看了,事实上中国在科研人才流失这一方面是非常严峻的,有超过70%的中国博士生出国留学后会选择不再回来(网络数据)。
很多人说难道真的是因为那些国家提供的薪资和条件比较好吗?其实不然,中国已经对科研的提供条件已经非常好了,像是华为给那些科研人员提出的工资是相当高的,但是有些人才却坚信科学无国界。
认为在国外有着更好的科研氛围完成自己的科研目标,甚至有人说出了面对于科学研究,不应该有国界之分,然而有些人就是不清楚,科学虽然无国界,但是科研人员有国籍,如果在人才问题上得到了解决,那么相信芯片与光刻机所存在的一系列难题也不会远了。
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