光刻机是芯片制造中最核心的设备之一,没有光刻机,芯片的发展就无从谈起。在高端光刻机市场,荷兰ASML的光刻机一家独大。我国的芯片发展必然离不开高端光刻机的加入,但是美国未必肯让荷兰出口光刻机给中国。
但是最新消息或将反转这一局面,10月15号,ASML总裁Peter Wennink宣布“根据当前法规,ASML无需获得美国出口许可证便可以继续从荷兰向中国客户出货DUV光刻系统;对于直接从美国发货系统或零件到受法规影响的客户,ASML需获得许可证。”,也就是说无需美国许可,荷兰ASML就能向华出口DUV光刻系统,有乐观人士表示这或将能够加速中国芯片国产化。
我们现在最需要的是什么?是最先进的EUV光刻机,这一光刻机对华出口目前还需要美国许可,美国一日不松口,我们一日就无法购买最先进光刻机,所以与其等着美国放松制裁,还不如加大投入研究才是最根本的解决之道。
近日有好消息传来,中芯国际完成了FinFET N+1先进工艺的芯片流片和测试,业内称这是变相实现了7nm技术的国产化!在半导体领域,我们虽然落后,但是我们会奋起直追,总有一天能实现芯片国产化。
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