一直以来,中国的半导体领域都很依赖国外的设备以及技术。而在这种情况下,我们就迎来了多次被动的局面,只能“任人宰割”,尤其是芯片上。现如今,因为缺失高端光刻机的原因,我们国家的芯片技术实力一直没有很大的提升,导致华为都不得不卡在这个芯片难的境遇。
而近期,好消息终于传来了,本月,上海微电子设备有限公司正式宣布,将于2021年至2022年交付国内首台28nm浸没式光刻机,而这也是中国在半导体领域取得的一个重大突破。
而这个消息对于我们来说无疑是振奋人心。诚然,28nm的确不是最好的,但能够从之前的90nm光刻机瞬间突破到28nm,这无疑是很大的一种进步。而且按照这样的速度发展下去,我们未来在国内的芯片领域中,将不会再依赖他国的技术以及设备。
而特别注意的是,在我国于半导体设备行业获得重大进展后,美国的表现看起来十分过激,居然在不上两月的時间内,依次公布要拿出370亿美金,折合RMB2614亿来帮扶美国芯片公司。
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