编者按:随着半导体制造技术节点接近并超过7nm / 5nm,在DUV和EUV中为实现更高的分辨率,分辨率增强技术(RET)已经变得至关重要。在传统OPC中展现了优势的反演光刻技术(ILT)即是其中之一。利用S-Litho的ILT高精确度模型,实现了最优质的掩模版。妨碍ILT用于大规模生产的一大障碍是其运行时间。到目前为止,ILT主要针对代工厂用户的坏点修复以及存储器用户的单元级应用。通过Proteus ML平台,Yongdong Wang及其团队可以在保持掩模版相同优化程度的情况下,显著减少ILT运行时间。
感谢您一直以来对光刻人的世界和本次会议的关注。第二届国际先进光刻技术研讨会已经于上月19日圆满闭幕,为了更好的举办下次会议,给大家提供更好的学术交流平台,分享光刻领域最新的研究进展,作为本次会议的官方公众号,我们希望大家能够积极配合填写调查问卷(匿名问卷)。在这里代表所有IWAPS工作人员感谢大家的配合与支持。
如果您对本次会议有任何其他建议,例如希望下一届增加的内容、对会场安排的建议、希望改进的地方,都可以在文章最下方留言。我们会在留言区抽选幸运读者发送微信红包,希望大家踊跃留言。
部分报告原文下载地址
领取专属 10元无门槛券
私享最新 技术干货