ASML将在年底前履约交付高端DUV光刻机，国产设备进展如何？

虽然我国自研芯片取得了巨大的成功与进步，但就目前时间点来看，依旧十分依赖先进光刻机设备。按照占据光刻机市场主导地位ASML的说法，在2023年的剩余时间里，ASML将能继续交付NXT:2000i DUV光刻机产品到中国客户，但这些产品从9月1日起将受到限制。

目前ASML在售的DUV光刻机主要有三大型号：TWINSCAN NXT:2050i、TWINSCAN NXT:2000i 和TWINSCAN NXT:1980Di。根据ASML的介绍，其TWINSCAN NXT:2000i及之后的DUV光刻系统将会受到出口限制。

在ASML官网上有关TWINSCAN NXT:1980Di的介绍中表示，其分辨率可以达到≤38nm，每小时可以生产275片晶圆。但是通过多重曝光，该设备依然可以支持到7nm左右。只不过，这样步骤更为复杂，成本更高，良率可能也会有损失。

DUV光刻机简单来看就是利用深紫外光谱光波的设备，该系列是 ASML的第二级产品线。其最先进的EUV（极紫外线）设备从未出售给中国客户。而且根据今年6月份与美国达成的一项协议提及，ASML必须获得许可才能出口一些最尖端的技术到中国客户手中。

选购海外光刻机频频受阻，国内自研光刻机进展如何？虽然有消息称上海微电子研发的28nm DUV光刻机即将在今年年底实现交付。但实际情况并非大家想象的那样，我们很快就有自主研发的新进DUV光刻机量产使用了。

实际情况是之前交付的几台90nm光刻机并没有实现量产能力。其实这样的设备在行业被称之为Alpha研发机，Alpha机必然需要在集成电路制造工厂(fab)花上两三年时间去不断跑片发现问题并改善问题，功率需不断提升到能量产商用才能称为量产机。目前来看，新交付的90nm光刻机每小时只有3~40片的效率，这一切都意味着对其优化还需要好几年，目前仍处于无法正常生产状态。

只能讲对于光刻机领域我们要走的路还有很长且很艰难，我们需要的是沉淀下来的冷静决策与追赶方案。但有一点我们坚信，那就是没有一个寒冬不可逾越，没有一个春天不会降临。