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    【说站】java求圆的面积代码

    java求圆的面积代码 本教程操作环境:windows7系统、java10版,DELL G3电脑。 1、求圆的过程 创建圆形Circle类。 为此类提供变量r表示半径,常量PI表示圆周率。...2、实例 package hello.circle;   /**  * 创建一个圆Circle类。  ...* 为该类提供一个变量r表示半径,一个常量PI表示圆周率;  * 同时为该类提供方法:用于求圆的面积;  * 为该类提供一个无参的构造方法,用于初始化r的值为4。  * 在main方法中测试。  ...Circle();         System.out.println("-----");           c.area();           c.girth();     } } 以上就是java...求圆面积的代码,大家可以先对基础的求圆过程进行熟悉,然后跟着上面的实例代码进行练习。

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    圆和线

    如果有一个圆,在圆上有很多数学上的点,这些点足够多。那么将这些点拿出来,而不是很表示一段有趣的序列 在空间有两个圆,圆上面有很多线,线的两段分别连接两个圆。...圆将会相互嵌套,圆从中间上升或下降,上升的圆会变大,下降的圆变小,在上升到一定高度,圆从上升转下降,同时下降的圆下降到一定高度转上升,此时下降的圆将会套住上升的圆 ?...连接两个圆的线将会在两个圆再次套住的时候,绕两个圆一圈,于是拿到新的坐标 将会记录每次两个圆套住的时候所有线所在的坐标,将这些重新定义为线连接圆的点,记录这些点,这里的点不使用数字表示,而是通过表达式表示...在圆上升或下降都会在两个圆套住的时候计算完成距离,通过圆里面的线绕过的点确定 在圆上升过程中,每个线都会移动,移动根据当前圆上升的距离和当前线和圆连接的点计算 就这样两个圆将会不断上升下降,然后不断嵌套...通过圆里面的点和圆当前上升的距离算出圆的变大趋势。

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    OpenCV 圆检测

    method 定义检测图像中圆的方法。目前唯一实现是cv2.HOUGH_GRADIENT dp:累加器分辨率与图像分辨率的反比。dp取值越大,累加器数组越小。...minDist:检测到的各个圆的中心坐标之间的最小距离(以像素为单位)。如果过小,可能检测到多个相邻的圆。反之,过大则可能导致很多圆检测不到。 param1:用于处理边缘检测的梯度值方法。...阈值越小,能检测到的圆越多。 minRadius:半径的最小值(以像素为单位)。 maxRadius:半径的最大值(以像素为单位)。 下面以这张气球串的照片为例进行讲解。 ?...最后进行圆检测: #HoughCircles(image, method, dp, minDist[, circles[, param1[, param2[, minRadius[, maxRadius...圆心坐标和圆半径的数据: ?

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    晶圆修边处理后,晶圆 TTV 变化管控

    关键词:晶圆修边;TTV 变化;工艺参数;设备改进;检测反馈一、引言晶圆修边是半导体制造过程中的重要环节,可去除晶圆边缘的缺陷与多余材料,降低后续工艺中晶圆破裂风险。...但修边处理会使晶圆边缘受力,内部应力重新分布,导致 TTV 发生变化,影响晶圆平整度和芯片制造精度。因此,研究晶圆修边处理后 TTV 变化的管控方法具有重要意义。...此外,刀具与晶圆的接触角度也需精确调整,合适的接触角度能使修边力均匀分布在晶圆边缘,降低因受力不均导致的 TTV 变化 。2.2 设备改进对晶圆修边设备进行优化可有效管控 TTV 变化。...同时,在设备上安装高精度的压力传感器,实时监测修边过程中晶圆所受压力,一旦压力异常,系统自动调整修边参数,防止因压力过大造成晶圆变形,进而影响 TTV 。...运动控制灵活,适配2-12英寸方片和圆片测量。

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    晶圆键合技术

    二、晶圆键合设备 1.晶圆键合工艺   先将晶圆装载到FOUP中,并由中央机械手臂对晶圆逐片检测——(FOUP是指front-opening Unified Pod,即前开腔体)   表面预处理   ...酸蒸汽清洗——衬底暴露于一种还原性的酸蒸汽中以去除表面氧化层 (2)表面预处理——湿法化学处理   硅硅键合或熔融键合中常用——亲水性处理:经过亲水性处理后,晶圆表面吸附的【OH】基会与其他晶圆表面的悬挂键进行结合...,这些基会吸附晶圆表面水分子形成角水基,当两个经亲水性处理的晶圆的距离接近角水基中存在的偶极矩的作用范围时,两晶圆会在范德华力作用下相互接触并键合到一起。...环形波纹产生的过程为:首先,两晶圆相互悬浮直至形成点接触,启动键合并穿透表面的静电斥力,在后续键合过程中,接触面附近的空气呈环形波纹被挤压排除;当晶圆在范德华力作用下完全接触后,室温下晶圆接触界面处就会形成环四聚物的环形物质...酸蒸汽处理可以避免晶圆浸没在液体中,可以将试剂对叠层晶圆上的钝化层、键合层、绝缘层受到的刻蚀影响降到最低甚至是完全避免。

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    晶圆背面减薄过程,对晶圆TTV 的管控

    摘要:本文聚焦晶圆背面减薄过程中晶圆总厚度偏差(TTV)的管控问题,从减薄工艺参数优化、设备性能提升、检测与反馈机制完善等方面,系统阐述有效的 TTV 管控方法,旨在减少减薄过程对晶圆 TTV 的不良影响...,保障晶圆制造质量。...关键词:晶圆背面减薄;TTV;工艺参数;设备优化;检测反馈一、引言在半导体制造中,晶圆背面减薄是为满足芯片轻薄化需求的关键工艺。...然而,减薄过程中机械应力、热应力等因素易使晶圆产生变形,导致 TTV 发生变化,影响芯片的性能与良品率。因此,研究晶圆背面减薄过程中 TTV 的管控方法,对提升半导体制造水平具有重要意义。...运动控制灵活,适配2-12英寸方片和圆片测量。

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    晶圆测试解析:晶圆探针卡是如何检测的?

    在半导体制造的整个流程中,IC设计、晶圆制造、晶圆测试以及晶圆封装是不可或缺的关键步骤。...晶圆测试:从晶圆针测到最后测试半导体器件的制造流程复杂而繁多,其中测试环节又分为多个阶段。晶圆测试主要分为两大块:晶圆针测和最后测试。...晶圆针测是在晶圆加工完成后的一个重要步骤,而最后测试则是产品出厂前的最后一道关卡。 晶圆针测:筛选、修复与效率挑战晶圆针测,亦称为晶圆级测试,是在晶圆仍未被切割成单个芯片之前对其进行的电气性能测试。...使用探针卡进行晶圆针测的一个核心功能是能够大范围、高密度地同时检测晶圆上的多个芯粒,并且能够动态地更新检测数据。这一过程的难度在于如何快速且准确地完成测试,而不损坏晶圆上的敏感结构。...此外,探针卡在接触晶圆表面时,如何最大限度地减少对晶圆表面的磨损也是一个技术难题。探针卡的关键角色探针卡是晶圆针测中不可或缺的部分,它是检测过程中直接与芯片接触的部件。

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    HoughCircle找圆总结——opencv

    Opencv内部提供了一个基于Hough变换理论的找圆算法,HoughCircle与一般的拟合圆算法比起来,各有优势:优势:HoughCircle对噪声点不怎么敏感,并且可以在同一个图中找出多个圆;反观拟合圆算法...,单纯的拟合结果容易受噪声点的影响,且不支持一个输入中找多个圆 缺点:原始的Hough变换找圆,计算量很大,而且如果对查找圆的半径不加控制,不但运算量巨大,而且精度也不足,在输入噪声点不多的情况下,找圆效果远不如拟合找圆...观察细心的可能发现了,第4步中的左图找出的众多圆其实已经比前面找出的圆靠谱很多了,而且这么多圆必定有一个圆就是我想要找的圆,只是按照投票分数排序下,最好的圆偏差较大。...来找出一批差不多的圆(如步骤4),然后画出这些圆,和实际轮廓比对一下,按实际重合像素的总数排序,这时分数最高的圆就如上面的结果图!...,但无法真正提高精度,找出来的圆与实际圆稍有偏差还是有可能的;若需要高精度定位,建议采用该方法做粗定位,采用拟合圆做精定位(类似各商业算法中的环形区域找圆)

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