研制光刻机困难程度超越原子弹，仅两国掌握，中国制造任重而道远

随着时代不断发展，电子产品的科技水平也在不断提升，同时也让芯片备受重视。可是想要研发出极为精密的芯片，就离不开一台重要的设备，那就是光刻机。

可惜的是，一台看似不起眼光刻机，研制困难程度堪比原子弹，全球范围内仅两国可以制造，那就是日本与荷兰。说白了，就连素有“世界工厂”之称的中国，都不具备研发光刻机的能力。

据悉，目前全球范围内最先进的光刻机，以EUV光刻机为主，虽然只有荷兰与日本可以研发，但是这两个国家与美国的关系并不错，意味着中俄想要接触到高端光刻机的机会几乎为零。那么光刻机究竟有何独特之处？为何会被西方国家视为“掌上明珠”？

事实上，光刻机之所以备受重视，就是因为芯片在当今社会越来越受重视，可以轻松实现控制大型机械。而光刻机打造芯片的时候，需要使用紫外线将晶圆体表面的保护膜去除，然后根据电脑编程，在晶圆体上“雕刻”图案。最初的时候，以DUV为主，随着技术的进步如今以EUV为主。

按照荷兰和日本如今所掌握的光刻机研发技术，已经能够加工出直径相当于人类头发丝五千分之一的线条。之所以EUV光刻机研制难度较大，一方面是因为EUV光刻机采用13.5纳米紫外线，同时可以使用二氧化碳激光将金属锡转变为等离子状态。

同时还使用到了德国制造的反射镜头，确保可以实现多层膜反射，再配备专用的固定操作台，这样就可以降低位移带来的干扰。之所以要说研发光刻机难度堪比制造原子弹，最大的原因并不是我国不知道其中的原理，而是没有掌握制造一台精密仪器的技术。再加上西方国家故意围堵，自然让我国无法研发出先进的光刻机，甚至连28纳米的DUV光刻机都没有搞定。

因此，在光刻机领域，中国制造依旧是任重而道远，还需要继续努力，希望通过不断发展，可以早日研发出属于中国人自己的光刻机。

此举不仅会让中国芯片的先进等级得到提升，同时也会打破西方长期以来对中国的垄断。虽然这一过程必定会无比漫长，甚至充满坎坷，但是老话说得好“不经历风雨，怎能见彩虹”？相信凭借中国人的智慧，总有一天我们可以拥有百分百国产光刻机，届时估计欧美国家除了竖起大拇指，没有更好的选择。按照中国科技和工业的发展速度来看，相信那一天不会太远。