中国芯加速前进！南大光电再传新进展，开始打破日美垄断

芯片被誉为“现代工业的粮食”，其重要性越来越大。因此，芯片制造就显得更加重要。但要做好芯片制造，就需要解决芯片制造设备、制造材料和设计软件等问题。

一直以来，关注较多的是光刻机这个最重要的芯片制造设备。其实，芯片制造材料光刻胶的重要性也不逊于光刻机。如今，南大光电再传新进展，开始打破日美垄断！

光刻胶变得更加重要

光刻机之所以至关重要，主要是因为光刻工艺是芯片制造过程中最重要的环节，在整个芯片总耗时中占比达到50%左右。而光刻过程中的七大流程，首先就是要涂胶。

这里涂的胶就是光刻胶，并且光刻胶跟光刻机一样，其精度同样制约着芯片制程的前进，就是不同制程节点就需要不同的光刻机。比如，7nm以下就需要EUV光刻胶。

因此，光刻胶也是芯片制造过程中必不可少的材料之一，其重要性甚至比肩光刻机。

光刻胶的种类非常多，芯片制造用的光刻胶基本对标光刻机，根据所适配的刻蚀用光的波长不同，市场上半导体光刻胶主要分为g线、i线、KrF、ArF、EUV这几类。

半导体光刻胶由于纯度要求非常高，生产工艺很复杂，需要长期的技术积累，属于高技术壁垒材料。目前，全球光刻胶市场基本上被日美企业垄断，自给率不足10%。

光刻胶的追赶相当不易，因为面临着三大壁垒：专利壁垒、客户壁垒、设备壁垒。

首先是专利壁垒。截止到去年9月，日本光刻胶专利申请量占46%，美国占25%，而我国仅占7%。不过，我国光刻胶专利的申请量正在快速增长，这是好的发展趋势。

其次是客户壁垒。光刻胶验证时间较长，过程还很繁琐。光刻胶厂商要持续给客户送样，听取客户反馈后再改进，这样反复有时会超过50多次，过程需要两三年时间。

因此，光刻胶验证成功的客户一般都不愿意更换供应商，这就制约了新厂家的发展。

南大光电再传新进展

再者是设备壁垒。为解决客户不愿意验证的问题，新进的光刻胶厂商就需要自己购买光刻机，拥有自我验证能力，以加速验证过程。然而，光刻机的价格又非常高昂。

购买光刻机无疑就增加了成本，因为光刻机开机成本几乎跟购置成本相同。为此，我国光刻胶企业只能购买二手光刻机，南大光电、晶瑞股份、上海新阳之前都买过。

不过，即使三大壁垒非常高，我们光刻胶企业也取得了突破进展，尤其是南大光电。

前段时间，南大光电对外宣布，公司自主研发的Arf光刻胶已经开始大规模投产，可用于14nm及以上制程芯片制造，并且正在向多家下游主要客户进行光刻胶的验证。

南大光电还针对同一客户的不同需求开发了不同的产品，以满足客户的多样化需求。

近日，南大光电再次传来重要进展，ArF光刻胶已通过两家客户验证，一家是存储芯片制造企业，另一家是逻辑芯片制造企业，还有多款产品正在多家客户同时进行认证。

g线、i线、KrF这三种光刻胶国内已经可以量产，但自给率还较低，还需要进一步提升产能。目前，g线、i光刻胶自给率约为20%，晶瑞股份、北京科华微等在做。

上海新阳主攻KrF和干法ArF光刻胶，已经进入产能建设阶段，但自给率不足5%。

南大光电的ArF光刻胶可用于90-14nm，正是DUV光刻机需要配套使用的。这次通过了两家客户验证，南大光电正式成为了通过产品验证的第一家国产ArF光刻胶企业。

即使在国际上，ArF光刻胶也只有少数几家公司可以做到产品级配方的调制。光刻胶产品通过了客户验证，就可以批量供货了。因此，南大光电在这方面打破了日美垄断。

光刻胶的落后将会严重制约我们的芯片制造发展，尤其是高端芯片，ArF光刻胶突破，接下来必然就是EUV光刻胶，尽管目前我们还用不到，但必须提前进行技术研发。

目前，我们正在大举扩产成熟制程产能，ArF光刻胶突破将进一步加速中国芯前进！