华为量子芯片为什么还是不能绕开光刻机，换道超车也还要被卡吗？

最近这段时间，我们时常可以看到一些关于量子芯片的消息，尤其是前一阵子华为公布的，关于量子芯片的专利，有不少人认为量子芯片可以绕开光刻机，如果我们发展的好，那么在芯片领域，我们极有可能摆脱被美国制裁的被动地位。

但事实却是即使是量子芯片，也还是需要光刻机！

目前，能实现量子优越性的只有我国和美国，美国的悬铃木用的是超导，我国的九章用的是光学，也就是光量子芯片。

超导量子芯片是西方国家——尤其是美国比较偏爱的，它的制作工艺与传统芯片的制造工艺很接近，简单改进之后就可以生产超导量子芯片，工艺开发成本比较低，设备方面当然也离不开光刻机，甚至需要最先进的极紫外光刻机。

而光量子芯片几乎属于全新赛道，传统芯片是以电为载体的，而光量子芯片是以光作为载体的，这就像是刻刀，刀刃越薄，刻出来的线条越细，制作工艺就越尖端，而光子可比电子薄太多了。

可以说，超导量子芯片、传统芯片都还属于电子的天下，而光量子芯片几乎已经是光子的天下了。

除此之外，光量子芯片还有一个优势，那就是不依赖光刻机，但也只能说是不依赖，却不是完全避开。

光量子的实现难度远高于超导，需要的设备也更复杂，比如：量子态调控装置、单光子检测器、激光光源、过滤设备、波导等等等等，这些全部都是需要去研制升级开发的。

只看这些设备，的确是不需要光刻机，但要只因此就说，光量子芯片完全绕开光刻机了，却是不太现实。

首先就是供应链的问题，光量子芯片虽然依托光学，但它也需要微观电路和各种零器件，生产这些可都是需要光刻机的。

其次，光量子芯片目前只能做到100纳米，传统的光刻机就够用，但我国乃至世界都还处在起步阶段，谁知道未来光量子芯片会不会做到几纳米，到时候会需不需要光刻机。

所以，不能说量子芯片可以完全避开光刻机，只能说光刻机不是光量子芯片的关键技术。

因此，我们要做的，就是趁着全世界都在起步的时候，加速发展，抓紧研制出一套独立的光量子芯片制造供应链，将关键技术以及相关配件都牢牢的握在自己手里。