集微网消息,据日媒报道,全球最大的半导体溅射靶材厂商—JX日矿于3月16日宣布,继在美国亚利桑那州建厂后,将在茨城县常陆那珂市征地建设另一家半导体溅射靶材工厂。
拟征地用地面积为240000平米,日媒称预计投资额约为2000亿日元,新工厂将从 2025 年初陆续投产。
据介绍,该公司基于对半导体溅射靶材和压延铜箔/高性能铜合金带材等先进材料供求状况的评估,为满足紧迫的下游需求,做出了这一投资决定。
此外,除现有的半导体溅射靶材、压延铜箔、高性能铜合金带材等业务外,JX日矿还表示将大力发展面向6G时代的晶体材料技术,此前其已投资了新一代高频无线通信氧化镓晶体研发企业Novell Crystal。(校对/乐川)
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