光刻机不是目的？中科院取得重大突破，美国竟想让我们公开技术

我们都知道，在最近20年内，中国的科学技术获得了突飞猛进地发展。20年前中国的基础科学水平，比欧美国家还有着非常巨大的差距，比如说我们的半导体芯片产业基本上就是零。而半导体芯片可以说是未来科技的重中之重，就在最近中科院就在半导体科学技术方面获得了一个新的重大突破。

中科院获得技术突破，中国技术发展不会停止

半导体芯片产业一直都是我们科技发展的一个短板，欧美国家目前在半导体技术领域方面基本上拥有着绝对的技术优势，所以他们对中国卡脖子，限制中国的发展。

所以我们一直希望可以改变这一局面，而想要建立中国自己的本土半导体产业，首先一点就是要先解决光刻机的问题。原先只有荷兰的公司可以生产世界最高端的光刻机，而荷兰公司的光刻机要使用来自美国的技术，这也是为什么美国可以在半导体产业方面卡中国脖子的一个重要原因。

在国家投入了大量资源的情况下，中国的光刻机发展速度非常快，甚至我们已经有了属于自己本国生产的光刻机。虽然在技术水平上还没有办法和欧美国家的最先进水平相提并论，但是起码已经解决了从无到有的问题，但是其实光刻机仅仅只不过是我国半导体芯片产业发展的一个幌子而已。

而在关键时刻，中科院已经获得了一个新的突破。根据媒体报道，中科院最近已经在集成光学量子芯片的基础上获得了决定性的突破，这代表着在未来，中国有可能在不使用光刻机的情况下，也能够生产出最先进的芯片，这甚至可以让中国的半导体技术领域方面，实现对欧美国家的弯道超车，现在就连美国也觊觎中国的技术，他们还要求中国公开技术。

中国芯片设计水平很高，但是制造能力不足

其实中国的芯片设计水平是很高的，华为公司，中芯国际公司所生产的芯片，从技术角度上不见得落后于欧美国家的顶尖半导体芯片。可是我们的缺点，就是半导体产业链尚且没有建设完成，半导体芯片的制造生产能力有所不足。

而我们的集成光学量子芯片技术获得突破，就代表着我们将来不需要再购买光刻机了，我们只需要生产由中国设计制造的集成光学量子芯片的仪器就可以了。

这代表着我们已经基本打破了欧美国家在芯片制造方面的垄断，中国的未来发展是不可阻挡的。也希望集成光学量子芯片生产技术，可以迅速转化落地。