关于国内自主光刻机，ASML再次表态！一切“示好”都是假象？

我们都知道造芯片需要一个核心的东西，那就是光刻机。而在国内的光刻机方面，我们目前暂时还没有更为先进的光刻机，所以要想造5nm、7nm这样更为先进工艺制程芯片的时候，我们还是要依靠光刻机霸主ASML。

只不过，有点不幸运的是ASML并不能自由的对我们出货EUV光刻机。而且在之前中芯向其订购的EUV光刻机到现在都还没有到手。由此可见，我们在这种情形下想要制造出先进的芯片，靠ASML提供高端光刻机是不太可能了，唯一能走的一条道路也就是靠自主的技术。

也正是因为这样，所以我们努力发展芯片自主技术的时候，也将光刻机的自研发列入了重点。有趣的是，在这个时候，ASML开始公开示好中国市场，认为美方不应该限制国内市场获得EUV光刻机，在如此限制之下只会加快我们中国对于光刻机研发的进度。

与此同时，ASML也表态，对于DUV光刻机这一方面他们可以自由出货给中国市场，不受任何的限制。从ASML多次的表态中，我们可以看出来ASML还是很希望继续和中国市场合作的，所以才会不断的对中国市场示好。

只是在近日，ASML对于国内自主光刻机这一方面，再次进行了表态。其表示：中国是不太可能独立的复制出顶尖的光刻机技术。也就是说，ASML并不看好国内自主研发光刻机的进程，对这一方面进行了“泼冷水”。事实上，ASML也不是第一次如此泼冷水了，早在以前他们也说过，就算是把光刻机的图纸拿给我们，我们都造不出来光刻机。

那么从ASML如此泼冷水的角度来看，难道说之前对我们的“示好”都只是假象吗？

其实并非如此，因为ASML在不看好的情况下，还说了这样一句话那就是：并不是完全没有可能，因为我们会一直努力的去尝试。有一说一，ASML这一次完整的表态用一句网络用语来说就是——“听君一席话如听一席话。”根本不具备什么真正有用的意义。

不过可以确定的是，对于国内自主研发光刻机ASML还是有所担忧的，不然也不会一边言语不看好，一边又为自己留有了余地。那么反过来说，ASML对中国市场的“示好”其实并不是一种假象，正是因为他有所担忧，才需要提前泼冷水让我们被困难打倒。

只不过虽说这是泼冷水，但ASML说的也是实话，光刻机技术的复杂程度本身就很高，除去这一点之外，光刻机方面需要用到的材料、零件都并非是哪一个国家或者是哪一个厂商就能完全提供的。所以，ASML说我们不太可能独立的造出高端光刻机，也并非说错了。

只是，芯片是人造出来的，光刻机也是人造出来的，在半导体内总是有很多奇迹发生。那么为什么我们自主的光刻机就不能有这样的奇迹呢？因此个人觉得，我们国内也会研究出自主的高端光刻机，只是现在还需要时间而已。

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