格隆汇11月3日丨江丰电子(300666.SZ)公布,2021年11月3日,公司的“超高纯铝钛铜钽金属溅射靶材制备技术及应用”项目荣获国家技术发明二等奖,该项目第一完成人、公司董事长兼首席技术官姚力军博士带领获奖团队参加了2020年度国家科学技术奖励大会并领取奖项。
“超高纯铝钛铜钽金属溅射靶材制备技术及应用”项目攻克了芯片制造用超高纯金属材料的提纯及溅射靶材制备的核心技术,开发出用于芯片制造的超高纯金属溅射靶材的全套生产工艺,建立了拥有自主知识产权的研发、生产、品质管理等体系,设计并建设了完全基于国产化装备的世界一流的溅射靶材生产基地,实现了超高纯Al、Ti、Ta、Cu等全系列先端靶材的产业化,有效提升了我国集成电路、平板显示工艺及材料技术的自主创新能力,推动了我国电子信息行业的技术进步。
公司将以此次获奖为契机,以创新思维为引领,全方位推进“科技创新强企”战略,加大研发投入,以保证产品的创新性和技术的领先性,不断提升公司核心竞争力,努力创造出更好的成绩,引领行业发展。
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