一个被日企垄断的芯片领域，出现国产破局者，3个月利润增长34倍

文/谛林 审核/子扬 校正/知秋

近段时间，上市公司按照惯例陆续公布2021年第三季度的财务报告。受全球缺芯潮的影响，上市公司中的芯片企业在该季度的业绩表现都非常出色，有的创下历史新高，有的利润翻了几十倍。

而全球缺芯潮的持续蔓延，利好的并不仅仅是芯片制造商，还有产业链上游的一系列原材料供应商，例如光刻机、光刻胶等细分领域的企业。

这些企业既享受到了缺芯潮的红利，又受到了更上游原材料价格持续上涨的影响，业绩翻番实属正常。连在全球市场排不上号的中国企业，都赚了个盆满钵满。

3个月利润增长34倍

根据10月27日南大光电发布的三季度业绩报告显示，该公司在报告期内实现营收2.66亿元，相比2020年同期实现了58.83%的增长。

南大光电在报告期内归属于上市公司股东的净利润为0.38亿元，虽然不足1个亿，但这已经是相比去年同期暴涨3412.09%后的成绩。

抛开其他方面不谈，单就南大光电的净利润增长幅度来看，这家中国光刻胶制造商的前景之广阔可见一斑。

据公开资料显示，南大光电正式成立于2000年，主营光刻胶、电子特气以及先进前驱体材料等三大半导体关键材料业务。

在光刻胶业务上，南大光电已经成功建成了ArF光刻胶产线，据笔者了解，该产线年产量可达25吨，目前已经成功签订了小批量的订单，但尚未进入规模量产阶段。

要知道，ArF光刻胶所对应的是波长193nm的深紫外光刻机，可以被应用于65nm——14nm工艺。

据悉，南大光电的浸润式ArF光刻胶产品已经通过了55nm和50nm的验证，这意味着该公司在很大程度上推动了国产中高端光刻胶的自主化，并进一步摆脱了国产成熟工艺芯片在原材料方面对海外巨头的依赖。

被日企垄断的芯片领域

相较于现阶段备受关注的7nm和5nm，55nm和50nm工艺的确不算先进，但放眼全球光刻胶领域，南大光电能够有这样的突破实属不易。

因为在相当长的一段时间里，包括富士胶片、信越化学、住友化学等在内的日本龙头企业，垄断着全球光刻胶市场。

而且，上述三家日本巨头所掌握的相关专利占据了80%以上，无论是在技术基础还是知识产权方面，日本企业拥有绝对的优势和主动权。

另外，光刻胶市场规模不大，技术壁垒却又极高，所以几十年来很少有企业能够打破日本巨头的垄断。

国产开始加速破局

但随着全球半导体产业开始逐渐向亚洲转移，中国集成电路市场规模越来越大，国内亟需在中高端光刻胶领域实现突围。

故而，在国家政策的支持，以及严峻的行业环境的推动下，中国光刻胶企业开始加速破局。

尤其是近两年，有关方面对中国半导体产业的封锁力度越来越大，进一步加大了中国公司的紧迫感。

所以在2020年，国内不少光刻胶企业都从某些渠道购入了二手光刻机，将其投入到中高端光刻胶的研发和产业化过程中。

不过，虽然国产开始加速，但仍然需要注意的是，国产与进口之间仍然存在产品质量、精度以及稳定性等多方面的巨大差距。

这些差距需要时间和技术的沉淀来弥补，而在这个过程中，如何突破海外知识产权的层层封锁是个不小的难题。

除了这个难题之外，全球光刻胶产业的固化和成熟，也是摆在中国光刻胶行业面前的大山，而在这方面，内需动力就可以派上用场了。

在你看来，国内最快多久能够打破垄断呢？