上海新阳（300236.SZ）：子公司芯刻微购得一台ASML XT 1900 Gi型二手光刻机

格隆汇 3 月 11日丨上海新阳(300236.SZ)公布，2020年8月13日公司第四届第十四次会议审议通过《关于转让全资子公司上海芯刻微材料技术有限责任公司股权暨关联交易的议案》，公司与上海芯刻微材料技术有限责任公司(“芯刻微”)、上海超成材料科技有限公司(“超成科技”)签署了《增资及股权转让协议》。增资及股权转让完成后，公司持有芯刻微38%的股权，超成科技持有芯刻微62%的股权，芯刻微公司未来进行ArF湿法光刻胶的研发。

集成电路制造用ArF湿法光刻胶产品技术要求高、投资需求大，公司为加速集成电路制造用高端光刻胶全品类的国产化进程，减少上市公司业绩压力，通过参股子公司芯刻微进行ArF湿法光刻胶的研发，并与协议各方承诺未来通过向上市公司进行股权转让或技术转让等方式避免可能的同业竞争。

近日，由芯刻微公司委托盛吉盛(宁波)半导体材料有限公司(“盛吉盛”)代理投标，成功中标，购得ASML XT 1900 Gi型二手光刻机一台，该设备可用于研发分辨率达28nm的高端光刻胶。3月11日，芯刻微公司向盛吉盛支付10%首期货款购入该光刻机，剩余90%六个月内付清。后续公司将启动设备的运输及相关安装调试等工作。

公司作为国内集成电路制造关键工艺材料供应商，自立项进行光刻胶项目研发以来，将突破集成电路高端光刻胶国外垄断，实现集成电路高端光刻胶材料的国产化作为发展目标，在 ArF干法、KrF厚膜及I线光刻胶方面已有技术与产品的突破。通过子公司芯刻微开展的ArF湿法光刻胶项目研发也已引进了核心技术专家团队，为ArF湿法光刻胶项目的开发提供了技术保障，现公司采购的ASML浸没式光刻机设备是对公司ArF湿法光刻胶技术先进性的设备保障，对加快公司集成电路制造用光刻胶产品研发项目进度有积极影响，有利于进一步提升公司光刻胶产品的核心竞争力，加速落实公司发展战略，提高公司抗风险能力和可持续发展能力。