中国65年就已有光刻机，80年代更是世界领先，为何后来落后了

光刻技术是所有微纳器件制造的核心技术。在集成电路制造中，正是由于光刻技术的不断提高才使得摩尔定律得以继续。——韦亚一 《超大规模集成电路先进光刻理论与应用》

说起ASML这个公司，现在应该说即使是对这个领域一无所知的人，也都对这家公司有了一些了解，为什么会有这样的情况出现，最重要的原因无非就是它在光刻机方面拥有了非常好的技术突破，而这一突破绝对值得人们去关注。

▲著名的ASML公司

前言

掩模对准曝光机这个名字听着就非常的高端，一般人还真的是接触不到这样高端的领域，所以他的另外一个叫法光刻机相比之下也就亲切很多，虽然还是不知道这个是做什么的，但是会觉得不那么高深。

▲光刻机

实际上这个光刻机是一种设备，主要的作用和生产芯片有很大的关系，如果想要制造芯片就需要光刻机，没有光刻机就制造不出芯片，而且光刻机可以左右芯片的质量，在制造工艺身上要求是非常高的，在制作要求上更是人们想象不到的苛刻。

▲雕刻芯片

半导体领域发展迅猛

在建国初期中国的半导体领域有了飞速的发展，那是因为当时有一批非常优秀的科学家回到了祖国，他们将自己在国外所学全部用到了祖国的科学技术建设方面，其中最令人称赞的莫过于钱学森和钱三强两位科学家，而就是他们的努力下，使得中国的半导体技术有了飞速的发展。

▲钱学森和钱三强

而且在那个时候不仅半导体领域上中国的技术非常的领先，就连其他科技领域也是有很强的技术在研发。有了这些科学家的不断努力，使得中国的科研不仅独立，而且取得了很高的成就，那个时候半导体业的发展也是非常迅猛的。

▲光刻机研发

很早就研发了光刻机

如今越来越多的国家关注到光刻机这个技术是因为芯片需要光刻机，实际上早在上个世纪60年代的时候，我国就已经有了第一台65型接触式光刻机就诞生了。要知道在那个时候，世界上根本没有几个国家拥有光刻机，中国能在那个时候就研发出来属于自己的光刻机，应该说在这一领域是非常的领先的。

之后一直到上个世纪80年代，中国的光刻机技术在全世界范围内可以说都是名列前茅的，很多国家的光刻机技术都不能和中国的光刻机技术相比，因此不谦虚地讲，当时中国的光刻机技术绝对是世界上顶尖的。

▲光刻机自主研发

80年代后走向衰落

那个时候中国的光刻机技术虽然领先，但是也遇到了很多的问题，因为搞研发就需要有很多资金的投入，但是这些资金投入之后，有一些技术上的问题，在当时又不能够很好的解决，因此在看到国外很多先进的设备之后，国家也就放弃了，对设备的研发变成了购买。

这样最终就导致了中国在光刻机的研发上完全停滞了，很多搞光刻机研发的公司，因为没有了资金的支持，就变得岌岌可危，最后公司也倒闭破产，没有了科学家的研发这个项目就断了后来就被别人超越了。

▲瓦森纳协定

综述：

《瓦森纳协定》又对光刻机有了新的要求，不能够从国外购买则是最大的问题，而这个时候中国自己的光刻机研发已经停了将近30年，可以说光刻机这一领域如果不能进口就等于是什么都没有了。不能够让这样的事情发生，上海微电子装备有限公司成立就是为了改变这个问题。

经过很多年的努力之后，中国在光刻机领域终于又有了一席之地，现在已经排到了全世界第四的行列，虽然和第一位还有不小的差距，但是能够明显地发现在光刻机领域已经不是完全需要靠进口来解决问题了。不过这也给人们提了一个醒，科技是最主要的一定要选择自主研发。