13nm芯片！中国量子芯片成功突围，光刻机限制即将失效

几乎是为中国“量身打造”的《瓦森纳协定》，外加美国层层禁令的制约，令荷兰光刻机巨头ASML至今无法向中国市场出口EUV光刻机。

众所周知，在芯片制造过程中，光刻机是最核心也是攻关难度最大的制造设备。而

EUV高端光刻机的重要性，在芯片工艺越发精进的如今，又有高度提升。

因此

，美国为了限制中国半导体产业的发展，直接对我国进行了

EUV光刻机的出口限制

。没有EUV光刻机，在传统工艺下的芯片也就无法继续进行高精度的突破。

如此以来，中国半导体产业将陷入停滞不前的状态。

这是美国所希望看到的情形，也是目前中国极力冲破的难关。

由于光刻机的制造极为复杂，且技术门槛极高，短时间内，攻克

EUV光刻机显然不现实。因此，如果想要以最快的速度打破美国的垄断，只能绕开光刻机。

日前，中国在一项技术上的突破，就有希望让光刻机的限制失效。

所谓量子芯片，是用于量子计算机的一种专用芯片。

而量子计算机，是近几十年来被世界各国高度重视的高科技产品。

依托于量子芯片，量子计算机能够以极快的速度进行并行计算，可帮助人类解决诸多拥有庞大计算量的难题，对航空航天、生物学、气象等领域有重要的应用意义。

很明显，量子计算机的核心技术是量子芯片。而

掌握量子芯片的制造方法和自主知识产权，也就成为了各国科研团队为之努力的第一目标。

值得骄傲的是，在量子芯片的研发方面，我国科学家已经率先获得重大突破。日前，国际顶级学术期刊《自然》发表了一篇论文。

论文内容显示

，南方科技大学的贺煜团队，创造性地利用扫描隧道显微镜技术，成功以单原子级别的精度将两个磷原子构成的量子点放置在

13nm间距上。

这是硅基量子芯片制造领域的里程碑式事件，也是制造硅基量子芯片的第一步。

笔者了解到，如果这项技术能够成熟且被大规模应用，那么硅基量子芯片的面世将指日可待。

要知道，两年前，我国在量子计算领域还落后于美国。但今时不同往日，中国用种种成绩证明，中国科技已经走在世界前列。

虽然在某些方面仍落后于美国，但终有一天，中国会再一次用实力震惊世界。

文

/谛林

审核/子扬 校正/知秋