ASML传来好消息，光刻机突破后有望进入中国，比尔盖茨说的没错

相信很多人都知道，在近年来对于很多行业都是非常具有挑战性的一年，这其中发展变数最大的莫过于半导体行业，半导体行业在短短几个月的时间里产生的连锁反应，导致全球很多半导体企业，损失惨重，就连美国的一些半导体企业也无法躲避。

美国在前些日子就已经对中国地很多科技企业，实行了芯片方面的“封锁”，而中国在芯片方面想要“自救”成功，那么最关键的技术无疑还是光刻机，但是无奈世界最顶级的光刻机巨头阿斯曼也是在美国的掌握之中。

但是在近期荷兰ASML传来好消息，在他们光刻机工艺能够得到进展后，那么肯定是有望进入中国，比尔盖茨说地没错！阿斯麦生产的光刻机在全球是想买都买不到，大部分顶尖的光刻机只能供给给那些大股东，而就在前阵子ASML明确的表示，自家的DUV光刻机可以进入中国。

这还不是重点，重点是阿斯麦尔已经研发出了3纳米工艺的NA EUV光刻机，这就证明了普通的EUV光刻机已经不是最顶尖的机器了，那么在新一代光刻机有了突破之后，上一代的EUV光刻机是非常有希望进入中国的。

ASML也明确的表示，中国区域的客户肯定会受到公平对待，将EUV光刻机售卖给中国科企，已经成为了必然趋势，当然除了这个好消息外，欧洲那边也传来了好消息，欧盟汇聚了17个国家，斥资1000多亿欧元将要研发半导体技术。

其中导航由芬兰、德国以及荷兰等国家，也就证明了他们不仅要突破芯片难题，更要研发出自主的光刻机，比尔盖茨曾经说过，美国对半导体等行业实现的垄断是讨不到什么好处，如今看来他说的确实没有错，如果能够实现共同互利那就更好了。