不再受限于人！N＋1芯片技术取得突破，14纳米级已经开始量产

前不久，新京报报道了一个让我们全中国人都兴奋的消息，有关于我国的芯片行业。大家都知道，美国发动了对于我国芯片行业的制裁，让我国的有关企业非常难受。但是现在根据国内媒体的报道，我国14纳米级别的芯片已经满足了国际上芯片行业的标准，并且可以开始量产投入使用。之前技术不成熟的时候，我国在芯片行业非常的依赖EUV，但是现在随着我国技术的不断推进，这样依赖别人的日子也算是画上了句号。随着芯片行业的瓶颈被一点一点的突破，我国的半导体行业也是迎来了快速发展的时期。

大家都知道，芯片的发展和半导体行业的发展息息相关。虽然在最近这几年，我国的半导体行业已经有了很大的进步，但是，作为半导体行业中最核心的技术，也就是芯片，我国一直都没有能够掌握。不仅仅是一些高精度芯片的研发，同时还有芯片的制造，我国一直都非常的依赖进口。但是最近这段时间，随着我国的崛起，在国际上越来越多的西方国家想要制裁我们。以美国为首，联合了其他的国家合伙对我国的芯片行业发动了制裁，我国的很多企业都遭受到了不小的损失。而芯片被卡脖子了，半导体行业自然也是损失惨重。

面对国外越来越强硬的措施，我国也是很快就有了对策。为了日后，我国在这样的关键技术上不再受困于人，我国也是走上了自主研发的道路。已经将很多具备芯片研发和制造能力的企业聚集了起来，一起面对这次挑战。同时，我国也已经出台了一些政策，以此来推动我国国内半导体行业以及芯片行业的发展。我国大幅度地减少了该芯片行业的税收，同时还全国范围内的召集人才，共同研发有关的技术。在给出支持的同时，我国自然也是给出了相对于的要求：五年后自产芯片要能够达到七成。所以说，在面对制裁的时候，也是需要多面的看待他，不仅仅是挑战，同时也是机遇。如果能够把握住，那么这几年将会是我国半导体行业以及芯片行业飞速发展的一段时间。

在面对重赏和重压之下，我国的中芯国际在最近也是突破了一项技术难题，N+1芯片不再需要EUV。芯片领域之前最大的困难就是美国不仅仅禁止了芯片，连光刻机都禁止了。但是N+1芯片的诞生解决了这样的困境，目前14纳米级别的芯片制造以及在满足国际标准的情况下开始了量产，而N+1计划目前仍然在不断的优化，随着技术的推进，产品的市场竞争力也会越来越高。而光刻机方面也是有好消息传出来，前段时间中科院发表的一篇论文中，已经实现了5nm的线宽工艺的运用，使用的激光波长是405纳米。虽然目前距离国外顶尖的光刻机还是有一些距离，但是很快应该就可以赶上。

美国本来可能是想通过制裁的方式来延缓中国的发展，但是现在在重压之下，我国逆势生长的局势可能是美国想不到的。中国并没有因为他们的打压和制裁就放弃与认输，而是憋着一股劲要和他竞争到底。这一就是那个我们熟悉的不服输要强的中国，在面对欺负的时候是不会轻言放弃的。美国想要通过这样的方式来维护他们世界第一的位置，却不曾想到，这样只会让我们更清楚自己的不足之处，从而更快地弥补自己的不足，更好的发展。以目前的形式来看，五年之后，恐怕美国的芯片就要没人要了。