在芯片的制造过程中,手续是非常复杂的,对工艺的要求也极高,在几平方厘米的地方,要搭建上亿甚至上十亿根具有特定功能的晶体管,可想而知其中的难度,这凭借人工是不可能完成的,必须借助现代科技设备的力量。
目前我们使用的硅基芯片,光刻机是必不可少的一个环节,其他的还有蚀刻机、薄膜生长设备、抛光机和清洗剂以及离子注入设备、扩散炉,这六种设备在芯片的制作过程中缺一不可,光刻机的制造是最难的,对此印度人觉得非常疑惑,中国明明掌握了光刻机的核心技术,可为何还是造不出来?
我们都知道,一台高端的EUV光刻机,仅零件的数量就多达10万多个,这些零件来自全球各个国家,零件的采购对我们来说就是第一道难题,其次还有组装、调试等工序,中国目前还没有能力造出一个完整的光刻机。
不过印度一些专家表示,中国不是已经掌握了光刻机的核心技术吗?制造应该不是难事吧,其实印度专家口中所说的这个核心技术,仅仅是光刻机所有核心技术中的一种——双工作台技术,这项技术目前确实已经被我们掌握。
双工作台技术可以说是ASML的独门技术,当年提出这个技术的时候,世界上没有一个国家能够攻克,这种技术在提高芯片的生产效率和精度上,有着极大的帮助,不过最后这项技术被中国的华卓精科攻克,打破了ASML的垄断,并且我们制造的双工作台,目前已经可以满足7nm工艺芯片的制造,功能非常强大。
只是仅仅掌握这一项技术还远远不够,光刻机这种地狱级别难度的机器,核心技术非常多,想要制造出一台完好的光刻机,以我们目前的实力还远远不够,中国需要学习的地方也有很多,按照目前的情况来看,我们也只有自己摸索了,路很长,但我们永远不能放弃。
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