制造光刻机有多难？有图纸都造不出来？那是因为没拿给我们

近年来我们在光刻领域上可谓是势如破竹，节节升高。上海微电子研发了具有全套国内技术的22nm光刻机，这对未来的芯片产业来说意义重大。我们在光刻机领域的研发一直都不如一些发达国家，更是距离世界一流有很大的距离。有些傲慢的外国专家表示，即使他们提供图纸，我们也可能无法研制成功光刻机。 出乎意料的是，中国专家直接用行动证明了自己的实力。微电子公司给了他们一个教训，尽管我们没有最好的光刻机技术，但制造光刻机并不困难。

从完全空白的工业基础到如今掌握22nm光刻机技术的道路，我们半导体产业的发展一直非常困难。在研发期间，还遇到了长期的技术封锁。拥有绝对优势的欧美公司不愿意分享技术，甚至不愿将最先进的极紫外光刻机出售给我们。所以也就有了一些欧美科学家狂傲地认为即使公开图纸，别人也造不出来光刻机。

虽然这是赤裸裸的嘲讽，但是十多年前，我们的确没有制造精密光刻机的能力。如果要制造精密的光刻机仅图纸是不够的，还需要一条配套的产业链，光刻机有成千上万的零件和组件。这些小零件具有很高的标准，制造它们必须要有完整的工业制造基础才可以。另外，组装这些精密零件之后，也难以使光刻机自由运行，它需要一百万种代码语言来指导其运行。

虽然我们已经有公司利用现实来向傲慢的欧美公司证明了自己的实力，但还没有超过制造高端光刻机的门槛。目前，在制造光刻机方面最有实力的公司是荷兰ASML。该公司已经能够制造5nm光刻机，但我们仅突破了22nm，还是有很大进步空间的。美国最近还颁布了半导体禁令，所以很难获得这种最先进的光刻机。荷兰公司不敢出售自己的光刻机，我们甚至没有学习的具体对象，所以未来的路还是要靠自己走下去。

与十年前相比，我们的科研条件和产业基础都有了质的飞跃。但是路漫漫其修远兮，吾将上下而求索，我们在未来也会一个个将这些技术高低地攻克。