近段时间来中美摩擦不断,中国科技企业,尤其是半导体企业成为美国针对的对象。目前,我国在半导体材料、生产等多环节上,都存在短板。长时间来,我国芯片依赖进口。面对美方的断供威胁,在我国半导体领域正悬着一把摩克利斯之剑。
在这个关键时刻,晶瑞股份买下一台ASML光刻机,该光刻机为SK海力士的二手光刻机,是ArF浸入式光刻机,这台光刻机虽然不算先进,但意义深远。据了解,此次收购晶瑞股份将斥资1102.5万美元,约合7500万元人民币。
据晶瑞股份表示,之所以会斥巨资采购台二手光刻机,主要是为了公司集成电路制造用高端光刻胶的研发。该光刻机可研发的高端光刻胶,最高分辨率为28nm,能帮助公司成功跨越至ArF光刻胶,完成应用于12英寸芯片制造的发展目标。
光刻胶作为芯片生产过程中,需要大量被使用的半导体材料,长期被美、日企业垄断。全球87%的光刻胶市场份额,都被两国企业占据。
今年来,我国光刻胶领域虽有进步,但多集中在中低端领域。中国高端光刻胶仍依赖进口。未来尽快改变这一现状,我国许多光刻胶企业,开始向上探索。晶瑞股份便是其中之一。
目前,晶瑞股份KrF已经进入中试验证阶段。下一步,公司还将启动ArF等高端光刻胶研发项目,而收购光刻机便是这一项目的重要一步。通过向不特定对象发行可转换公司债券,晶瑞股份募资5.5亿元,并将大部分资金用作高端光刻胶研发,与光刻机采购。
据悉,这台型号为ASML XT 1900Gi的光刻机,将在明年上半年,完成运输与安装。希望有着ASML光刻机的助力,晶瑞股份能推动我国高端光刻胶领域,早日摆脱美、日企业的控制。
除晶瑞股份外,南大光电、上海新阳等,也正在攻克高端光刻胶产品。其中,南大光电正在建设计划年产能25吨的,193nm光刻胶生产线。建成后,将进一步填补我国高端光刻胶空白市场。
同时,上海新阳也募资7.32亿元,用作高端光刻胶的研发与产业化。在这些企业的共同努力下,我国半导体材料市场的短板将进一步补足,并推动国产芯片自主化程度的提升,具有重要的意义。
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文/BU审核/子扬 校正/知秋
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