必须突破的光刻机
由于最近两年,美国方面针对我国华为公司不断升级芯片禁令,让我国企业深刻认识到了芯片自研的重要性,因此从2020年开始,我国在政策、教育、行业三大板块上相继发力,力求在短时间内搭建起一条完善的高度自主可控的半导体产业链。
基于此在9月16日中国科学院院长白春礼更是公开对外发话表示,中科院将集中全院科研力量,研发光刻机等相关核心技术。
此消息一出,也算是让我国相关芯片企业安心了,因为众所周知在芯片生产制造环节中,最为关键的一项就是光刻,而在光刻的过程中最核心的设备就是光刻机。
而当下我国的光刻机发展水平相较于移动芯片的精度要求水准还有较大差距,所以光刻机的突破成为了势在必行的事情。
中企再次出手
不过,我国在光刻机技术的突破上并非是只准备了中国科学院这一条线路,在中科院公开发话之后,根据日媒在10月13日传来的消息来看,中国企业再次出手了,据悉,业界有关人士表示,中国企业拟向两家日本公司提供资金,要求共同开发除EUV之外的新型光刻机。
而这两家日本企业就是尼康和佳能,作为曾经光刻机领域的巨头,这两家企业在光刻机领域也是颇有建树,不过后来由于受到美国的制约再加上ASML强大供应链整合的能力,最终惜败EUV光刻机市场。
现随着我国企业资金的入局,相信对于尼康、佳能而言也是非常好的一次再现辉煌的机会,而之所以要求要开发新型光刻机,很大程度上应该是为了完全的抛弃其中的美国技术,打造出全新的不含美国技术的高精度光刻机。
不得不说,我国对于光刻机的准备是非常充足的,但是伴随着我国的两次出手,ASML公司担心的事情也要提前发生了。
ASLM公司担心的事情提前发生了
从美国相关约束条例发布之后,我国就在筹备替代计划,而在这个过程中,各家企业都担心未来自己会失去中国市场,因为一旦我国有了相应技术,必定会抛弃原本的含有美国技术的供应链,ASML公司自然也是不例外的。
一直以来ASML公司构建的高精度EUV光刻机,更多的是借助了美国技术和全球供应链的一种技术整合,自身实力并不强。
所以在中科院宣布要入局光刻机研发后,ASML也加速在我国市场的布局,想要通过这些布局来减少未来我国光刻机技术突破后的损失。
但是让ASML公司意外的是,如今我国企业和日本光刻机企业的合作,无疑是让ASML公司担心的事情提前发生了,因为尼康和佳能本身就有强大的光刻机研发技术在身,如果在加上我国资金的注入,那么不含美国技术的光刻机一定更更快出现。
总结
EUV光刻机从当下的技术发展情况来看,的确是只有ASML公司一家能够实现,因为背后有美国提供的光源作为支持。
但是抛开极紫外光源技术来看光刻机市场,在深紫外光刻机领域佳能、尼康无疑也是王者级别的存在,如果这两家企业能够开发出不含美国技术的光刻机,的确是能够缓解中科院在开发出极紫外光刻机之前的市场需求,我国也可以更快构建出高度自主可控的半导体产业链。
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