中科院要造光刻机，而这家中企巨头历经8年，已取得关键技术突破

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光刻机的布局

9月中下旬，中科院院长白春礼正式对外宣布，要布局光刻机，并且集合全院的力量去攻克。在传来消息以后，业内一片哗然，因为光刻机象征着人类最先进，科技集成度最高的智慧结晶。

以前没有意识到光刻机的重要性，但是在这两年不稳定的外界环境因素下，让我们明白，必须攻克关键核心技术，其中光刻机就是重中之重。

现在有了中科院的宣布，光刻机的布局终于要展开。

光刻机重要吗？光刻机能做什么？光刻机意味着什么？等等一系列的问题，对外界而言是比较陌生的。

在科技高速发展的今天，芯片已经成为日常必需，虽然不直接面向用户，但是手机、电脑、冰箱等所有的电子设备都有芯片。而越是高端的产品，对芯片制造的要求就越高。

制造芯片的设备就是光刻机，一台最先进的EUV光刻机可以生产高端5nm芯片。这是目前人类能达到水平。5nm芯片拥有118亿根晶体管，相当于在一根头发丝上进行数万次作业。光刻机意味着一个国家能否成为科技大国，能否在科技领域拥有话语权。

光刻机的布局已经开始，而这家中企巨头历经8年，已取得关键技术突破。

历经8年，终得突破

不得不承认，我国光刻机的整体水平，和国外有一定的差距。可是这并不代表我国没有自己的产业。中国科学院长春光学精密机械与物理研究所是我国第一个在光学领域建设的研究所，简称长春光机所。

长春光机所成立于1952年，在光学领域有很深的造诣，而就在2017年一项“EUV光刻关键技术研究”通过了验收，历经8年，终得突破。

据了解，长春光机所的13.5nm波长极紫外光，突破极紫外多层膜等核心技术限制。EUV光刻机也叫做极紫外光刻，是制造高端光刻机重要的一项技术。采用波长为10-14nm的极紫外光作为光源。

如今在关键技术上有了突破，距离生产高端光刻机又进了一步。而且中科院的研发团队，在7月份的时候，还突破了5nm激光光刻技术。

众多的核心技术都在攻克，不只是芯片设计，在芯片制造上我们也应该投入更大的生产力量。只有这样，才能避免被卡脖子，不用再受制于人。

总结

高端光刻机的研发是一项漫长而又艰苦的科研项目，五年，十年可能都无法成功。可是我们要考虑的并不是现在，而是以后。给未来的后辈创造一个良好的科技市场环境，而不是处处有所顾忌，担心哪一天别人的技术不给用了，该怎么办。

只要能成功，都值得去努力，光刻机已经决定要布局了，技术也有相应的突破，接下来就是人才培养，企业扶持，相信到最后，一定能成功。

对我国攻克光刻机技术你有什么看法呢？欢迎在下方留言分享。

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