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光刻机一度让华为陷入危机,却反让华进入半导体新纪元,压力变动力!

光刻机一度让华为陷入危机,却反让华进入半导体新纪元,压力变动力!

最近华为的情况备受外界的关注,因为美国对华为展开了第二轮的制裁,美国已经禁止了荷兰ASML公司出口光刻机,这一度让华为陷入了前所未有的危机,大家都知道光刻机是生产芯片必要的机器,而且最新的光刻机可以制造的7nm芯片。

要远远超过之前所有芯片的功能,但是因为美国对华为的制裁,华为公司没能够得一台高端光刻机,直接让华为出现了芯片断供的情况,就在华为没有解决方案一筹莫展的时候,中芯国际直接站出来宣布,中国的芯片再也不需要光刻机了,中芯国际最新研究的N+1芯片技术,让中国彻底脱离了光刻机的控制,在原有的工艺生产出更高端的芯片。

而且所生产出来的芯片与7nm芯片相差无几,甚至在个别功能上要远远高于7nm芯片,虽然整个生产的工序要多出很多,但是整个生产的成本也降低了不少,由此可见美国对华为的制裁,让中国的半导体行业进入了一个新的纪元,一度让中国的半导体行业前进了一大步。

由此可见美国的制裁并不是一件坏事,并且还迫使中国研制出了自己的芯片制造技术,大家对美国制裁华为公司有什么想说的呢?

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  • 原文链接https://kuaibao.qq.com/s/20200829A06OGK00?refer=cp_1026
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