国内半导体领域依旧处于劣势,西方的半导体技术研发可是先进中国几十年,尽管中国依旧在不断深入钻研发展,对于某些技术性难题依旧停顿状态,在某些技术方面还是需要完善的,而光刻机精准度就是一个超高的难题。
光刻机在我国所面临不仅仅是一项技术难题,更关乎到中国的发展地位,光刻机可以说是世界上最复杂的机器,单单光刻机的机密零件的组合就需要成千上万个,精密程度可谓是无死角,而且光刻机的内部结构运动精度误差小之又小。
放眼全球,在光刻机上只有荷兰ASML公司才能掌握光刻机的技术,不说研发光刻机,即便是安装一台光刻机都需要有超硬的技术。
要想打破芯片的垄断甚至是量产国产芯片都离不开光刻机,想要实现国产芯片的量产,就需要突破自我。
近几年来,国内在光刻机上也算是小有成就,经过了十几二十年的发展,国内在半导体上也是人才济济,对于华卓精科、上海微电等知名企业在该领域上也有所建树。
目前,“中国第一台超分辨光刻装备诞生”,国内成功研发了第一台分辨力最高的紫外超分辨装备,其光刻分辨力再次得到突破达到22纳米,而且根据多种相关技术,可制造出10纳米级别技术芯片。
中国对于技术上的封锁依旧还有很多没有突破,尤其是在半导体领域的,不过,中国人天生就能吃苦耐劳,就连现在国内也有了自己的“国产芯片”,再也不用处在他人屋檐下苟活。
虽说国内国内技术不成熟的情况下,国芯片技术想要达到世界一流水平,短期内难以实现,一旦光刻机能实现研发,那么就算是被封锁的情况下,我们同样也能进行制造。
对光刻机的研发和精准度上,没有十几年的时间也许都研制不出,相信中国终有一天在半导体领域能站在国际的巅峰。
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