华为强势招人，可能想向5nm光刻机发起冲击了

华为强势招人，可能想向5nm光刻机发起冲击了，但很遗憾，我觉得这项技术两年内很难突破！

虽然吸纳了很多上海微电子的半导体人才，但半导体领域很大，设备种类繁多，以晶圆制造技术为例，就包含氧化炉、涂胶显影设备、光刻机、蚀刻机、离子注入机等多种设备，华为想凭自己全部搞出来几乎不可能，所以只能先主攻一个方向，把卡脖子的核心设备自研出来。核心设备是什么？

大家想必都已经知道，就是光刻机！目前全球光刻机市场被荷兰阿斯麦、佳能、尼康等企业垄断，其中ASMl手握EUV光刻机，几乎成为行业霸主。而按照我们企业光刻机的研究进度，上海微电子最快也要明年才能生产出28nm光刻机，至于7nm、5nm更是遥遥无期。华为虽然此时挖人，但想短时间内研发出5nm概率极低，别说两年，十年都得打个问号。光刻机研发有多难？

荷兰阿斯麦花了足足36年，才成功突破5nm，而尼康在半导体领域深耕四十年，依旧没能掌握5nm工艺。晶圆技术就像一座喜马拉雅山，想登上顶峰，需要漫长而艰难的过程，还需要一点运气。像上海微电子成立18年，也还在啃28nm光刻，晶圆制造的难度真的远非常人想象。

而且，一台光刻机的零件来自世界各地，像ASML的EUV光刻机，其光源技术就来自美国Cymer公司。华为不仅要突破光刻技术，还需要思考如何搭建起一条不包含美国技术的零件供应链。前路漫漫，可华为没法后退，再怎么难都得走下去，只能祝福华为！