打破西方垄断？中科院又立大功，攻克5nm光刻机关键技术！

芯片是人类科技发展中极为重要的一环，而多年以来西方都在该领域占据绝对优势，近年来我们在芯片设计方面取得了优秀成果，但是在芯片制造领域却依旧受限于西方。而在芯片制造领域，毫无疑问最难突破的就是光刻机，光刻机被誉为人类科技的桂冠，想要实现突破何其困难？

说得通俗一点，没有光刻机的芯片制造就是一盘散沙！因此光刻机也被称为是人类科技的桂冠，而目前光刻机技术又被荷兰ASML公司所垄断了，中芯国际长达三年的订单一直被忽视没有发货，所以突破光刻机技术变得无比艰难。

不过在就近期，中科院再一次立下了大功：攻克5nm光刻机关键技术！中科院苏州研究所传来好消息：已成功研发新型5nm高精度的激光光刻技术，并且是独立于ASML公司之外的一种新型技术路线，这意味着我们终于有望在5nm光刻机上打破西方垄断。

虽然说要达到ASML的高度还需要很大的时间，还有很多的难关克服，现在能够以最短的时间做到控制能量密度以及波长，在线宽上将宽度精确到5纳米已经很不错了，相信在所有芯片企业的共同努力下，能够完全的打破封锁，打造专属于中国的技术。