中国再投1697亿，修建存储器基地项目工程，地点就在武汉！
在国家历史的进步当中，相信对于科技更新关注比较密切的朋友们应该都对华为事件有着一定的了解，而且这样的情况当中也有不少人感到惋惜。
虽然说我国在当下的科技领域发展有着非常大的突破，也达到了让不可忽视的很大的进步，但是我们仍然很容易遭受到其他国家对我国进行的技术封锁，而其中美国对我国进行事情干扰的案例已经太多，这样的事例时时刻刻都在提醒着我们要坚持走自主研发道路。
特别是在集成电路的使用上，我国的工业的逐渐发力展现得很迅猛，那在这样的情况下，也由于我国如此多的人口需求量也就更大，因此在集成电路这一方面的需求是非常迫切的。
而这也是我国在芯片领悟中所遇到的一大难题，但其实我国这方面的总体实力却并不为大家所想象的非常的差，其实除了一些知名的大公司之外，我国也有着一些名气相对于小一些的集团研发的项目是非常不错的。
在我国武汉就有一个储存器基地项目工程，而这一工程总共被分数为两期，一期于2016年的年底开工建设，而且其实这其中36以及36的层储存芯片产品现在都已经可以稳定量产，并且它的第二项工程同样修建在相同的城市当中，其投资约为1697亿元，这是我国在这一领域上非常大的一个突破。
虽然说暂时还没有达到世界级的水平，但是这表示我们在芯片上有了更高的成就，并且其中国产顶级闪存的问世，使得我们在自主研发上有了更大的底气。
这一个大型工程项目它是由我国的紫光集团，国家集成电路基金以及湖北的两大集团共同投资所建设的。
虽然说它们被提起的次数并不如一些非常具有知名度的大型企业，但这也是我国发展非常不错的一些集团，很多人多多少应该都听过它们的名字。
因此可以看出，我国在这一方面所具备的实力远远不如大家所想的那么差，就等着被惊艳到吧。
好了，今天就为大家介绍到这里，我们下一期再见！
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