中科院立功！国产5nm激光光刻获重大进展，专家：打破西方封锁

7月11日，美国对华为等中国科技公司的镇压使我们明白，如果我们落后于美国，我们将被击败。尽管科学无国界，但科学技术受国界的束缚。尽管我国现在已经足够强大，但它与美国的技术之间仍存在一定差距，并且某些行业仍将受到美国的限制。

而就在大家持续关注中国芯片的发展，为华为后续的芯片制造担忧的同时，中国权威机构中科院发布了又一重磅消息。中科院苏州研究所已经研发成功了新型5nm高精度的激光光刻技术， 标志着我国的5nm光刻技术取得了重大进展。

而目前，国内半导体行业仍无法摆脱对ASML光刻机的依赖。如果这项技术取得突破，有望打破ASML的障碍，减少对ASML的依赖，实现我国半导体的自主研发。

而不过我们也不能盲目乐观，这一项激光光刻技术只是在实验阶段取得了重大进展，距离应用还有很远的一段路要走，更别说实现量产了。不过，有总比没有强太多，希望有更多的突破。从实际情况来看，在未来很长一段时间内，荷兰的ASML光刻机依旧是垄断地位。