众所周知光刻机与蚀刻机是芯片生产领域必不可少的两大仪器,他们在芯片制造之中本具有同等地位,但是由于光刻机制造的难度之大,设计的零件之多,数据之精密。
我国的光刻机也会因此应该迎来更大的突破,这对于我国的芯片制造技术上相当有益,我国其实目前对于七纳米技术的研发已经有了不错的成就,可以说已经有了足够的优势,那当前所拥有的这一个五纳米提供的这一消息更是提供了我国在科技的这一领域中更大的底气。
在该仪器的加持之下,5纳米芯片的生产效率将大大提升,根据专家初步估测,其能够提高百分之六百的速率,这一成果显然是让人们震惊的,当前这款设备尚处于测试阶段,不过距离正式上市也不远了。
ASMl公司还宣布将会在我国建立一个企业工厂,这更是一个非常令人激动的消息,仿佛看到了我国在今后与这家公司的更加密切合作。也相信我国在今后的芯片领域会有着非常大的突破,对于我国能够自主研发已经相差不远了,相信总有一天我们能够成功,并且做到最好。
领取专属 10元无门槛券
私享最新 技术干货