半导体巨头突然宣布！国产芯片再上一层楼，日本、美国始料未及

南大光电宣布好消息

南大光电全称是江苏南大光电材料股份有限公司，专门生产在半导体行业中占据着重要地位的MO源产品，是国内半导体材料行业中的佼佼者。

近日南大光电传出了一则好消息，国产ArF光刻胶技术取得了巨大突破，已经可以用于22nm芯片的工艺上了，并且目前已经掌握了量产和销售的手段。

这则好消息一经传出，对此有了解的人都表示很兴奋，认为有了此次突破，国产芯片将再上一层楼；而对此没有太多了解的人则有些不明所以，表示难道光刻胶技术是什么很难的技术吗？

确实光刻胶技术是半导体工业中比较难突破的一种技术，但是光刻胶却在芯片的生产中占据着重要的作用，可以说是密不可分！

大家都知道，生产芯片的过程中需要光刻机，比如说你想要生产一颗高端芯片，就必须拥有对应的高端光刻机，但是只有光刻机也不行，还需要光刻胶。

显然，光刻机和光刻胶都是生产芯片必备的东西，但是由于光刻机被人提起的多，而光刻胶被人谈论得少，所以导致很多人都不知道光刻胶是什么。

光刻胶是微电子技术中微细图形加工的关键材料，也就是芯片生产的关键材料之一。所以说国内在光刻胶上面取得的突破也就是在芯片行业上取得突破，二者是密不可分的，毕竟现在光刻胶的主要应用就在于芯片的生产。

其实国内的芯片工业一直都比较落后，这是由于我们在这方面起步较晚，并且长期受到国外的技术封锁和人才垄断。但是现在国内的半导体发展已经走上了正轨，并且在逐步完成多发达国家的追赶甚至是超越。

此次南大光电宣布的好消息，不仅让国内的半导体行业更上一层楼，还给我们的科研工作者带来极大的鼓舞作用，让他们相信，只要努力研究，总有一天会取得突破的！

日本、美国始料未及

如果说国内的光刻胶技术取得突破最让谁感到不乐意的话，那一定非日本和美国莫属了，因为这两个国家一直都是光刻胶市场的垄断者，其中特别是日本，是当之无愧的光刻胶领域龙头老大。

在国产光刻胶突破之前，日本和美国占据去了全球50%的光刻胶市场，并且世界上排名前五的光刻胶公司中，前四个都是日本的，第五名则来自于美国。

但是以后的情况一定会有所改变，因为国内的光刻胶取得巨大的突破，自然要发挥它的价值，占据一部分市场自然是它的价值的最好体现。日本和美国显然对我们国内能在这方面取得突破也是始料未及，不过现在后悔也来不及了！

在日本的美国的垄断下，我们依然能在光刻胶领域取得重大的突破，这点值得我们为之自豪，而且这也同时表明了国内科研人员的智慧并不比国外科学家差，国内的技术也并不比国外的技术差！

总结

随着时间的发展，国内的半导体事业也在快速发展，虽然发展之路不是那么顺利，中间充满了考验，但是不经历风雨怎么能见彩虹，不吃苦怎么能成功！

相信国内一定会在接下来的时间里继续取得突破，再创佳绩，为半导体事业发展添砖加瓦，而我们总有一天能实现技术自主，真正的成为一个科技强国！