AI芯片大战，芯片超纯水设备扮演什么角色？

AI芯片大战，芯片超纯水设备扮演什么角色?

近年来，我们看到人工智能(AI)和机器学习(ML)的应用扩展到更广泛的计算机和移动应用领域。现在，就像低成本图形处理单元(GPU)的普及推动了深度学习革命一样，硬件设计被预测为下一个重大发展提供基础。

随着大型企业，初创企业和中小型企业等公司争相建立支持AI生态系统的基本AI加速器技术。2018年，全球AI芯片市场整体价值66.4亿美元，预计未来几年将大幅增长，到2025年将达到911.9亿美元，复合年增长率为45.2%。因此，可以理解的是，许多公司都在致力于开发AI芯片。

集成电路的集成度越高，对水质的要求也越高，这也对超纯水处理工艺及产品的简易性、自动化程度、生产的连续性、可持续性等提出了更加严格的要求。

莱特莱德芯片超纯水设备系统根据半导体芯片用水要求，采用当今先进的全自动电去离子超纯水处理技术，前置预处理配套使用加反渗透处理，有效去除水中各种盐份及杂质，进一步提升水质，超纯水水质完全符合芯片生产用水要求。

芯片超纯水设备性能优势数不胜数，其能够连续稳定的制备品质优良的超纯水，不会因为树脂再生而停止运行，设备结构设计相对靠紧，所以其占地非常小，可以为企业节省很多空间，超纯水设备在出厂前均需进行装置调试，所以设备故障几率较小，日常保养、维修等操作都非常简单。芯片超纯水设备内部还安置有反渗透预脱盐技术，再次从根本上行保障了水处理设备的出水水质，与此同时，超纯水制取设备废水产出量少，不会对环境造成污染，有非常高的环境效益、经济效益，其发展前景广阔。

芯片超纯水设备出水水质完全符合美国ASTM纯水水质标准、我国电子工业部电子级水质技术标准(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五级标准)、我国电子工业部高纯水水质试行标准、美国半导体工业用纯水指标、日本集成电路水质标准、国内外大规模集成电路水质标准。