禁运限制下 韩国已掌握高纯度氟化氢量产技术

自日本于2019年7月开始限制向韩国出口用于半导体和显示器生产的三种关键材料——高纯度氟化氢、氟聚酰亚胺和光刻胶以来，韩国企业一直在寻求将其本地化，以减少该国对日本的依赖。其中一些半导体原材料已经本地化，或将在今年上半年由韩国公司生产。

韩国贸易、工业和能源部于1月2日表示，一家韩国公司已将高纯度氢氟酸溶液本地化，这是日本政府列入出口管制项目清单的材料之一。该公司将在不久的将来向韩国芯片制造商提供高纯度氢氟酸溶液。

韩国芯片制造商主要依赖日本公司生产纯度为99.9999999999%（12个9）的高纯度氢氟酸溶液，其中杂质仅为整个溶液的万亿分之一。高纯度氢氟酸溶液主要用于半导体制造过程中的晶圆蚀刻。

韩国化学材料公司Soulbrain在公州新建了一家工厂，并于去年下半年开始生产氢氟酸溶液，目前，Soulbrain生产氢氟酸溶液的能力翻了一番。因此，提供韩国半导体制造商所需氢氟酸溶液的三分之二已成为可能。这也是自日本开始对这三个半导体材料实施出口管制以来，韩国首次实现本地化生产。

一位业内人士表示：“据我了解，Soulbrain已准备好满足三星电子和SK海力士等韩国半导体生产商对高纯度氢氟酸溶液的需求。”。

此外，气态高纯氟化氢（蚀刻气体）和氟聚酰亚胺薄膜的本地化也在进行中。据报道，SK集团旗下的SK Materials公司计划在今年上半年开始供应高纯度氟化氢气体。

氟聚酰亚胺薄膜用于生产柔性显示器件。一家在韩国的外国化工公司预计不久将建成一座新工厂并开始生产该产品。

然而，光刻胶的本地化似乎还有很长的路要走。韩国政府一位官员表示，由于韩国半导体行业没有大量使用光刻胶，因此韩国正寻求通过供应商多元化而不是大规模本地化来降低对日本的依赖。三星电子通过比利时等绕行路线，进口了绘制10nm以下电路图所需的EUV光刻胶。日本政府在2019年12月批准了一次EUV光刻胶出口，允许三星电子在不受任何干扰的情况下生产产品。