观点网讯:近日,捷佳伟创子公司创微微电子(常州)有限公司自主研发的光掩模清洗设备在多家终端Fab厂完成验证并实现量产交付。
该设备在颗粒控制、无水痕、表面洁净度上均满足先进制程要求。
在光掩膜清洗领域,创微微电子已形成完整产品矩阵,覆盖5英寸至9英寸多种尺寸石英光掩膜,支持前后面全自动清洗、可选AOI颗粒检测、SMIF自动上下料。
关键零部件国产化率超80%,软件完全自主开发。
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