北方华创申请半导体工艺设备专利，使晶圆获得更加均匀的气泡及流场

国家知识产权局信息显示，北京北方华创微电子装备有限公司申请一项名为“半导体工艺设备”的专利，公开号CN120600662A，申请日期为2025年05月。

专利摘要显示，本发明涉及半导体技术领域，具体而言，涉及一种半导体工艺设备；该半导体工艺设备包括工艺槽、晶圆承载装置和鼓泡装置，晶圆承载装置具有多个沿第一方向间隔设置的晶圆承载部，鼓泡装置包括多个沿预设轨迹平行间隔设置的第一鼓泡管道，预设轨迹为开口朝上的凹形折线结构或弧线结构，且位于晶圆承载部的正下方；第一鼓泡管道的长度方向间隔设置有多个第一出气孔。该半导体工艺设备中，预设轨迹与晶圆外圈轮廓相适配，缩小各第一出气孔与晶圆外圈轮廓之间的间距的距离差，从而使得各第一出气孔与晶圆外圈轮廓之间的间距相适配，使晶圆获得更加均匀的气泡及流场，从而改善晶圆表面刻蚀不均匀的缺陷，提高了晶圆良率。

天眼查资料显示，北京北方华创微电子装备有限公司，成立于2001年，位于北京市，是一家以从事电气机械和器材制造业为主的企业。企业注册资本114153.708311万人民币。通过天眼查大数据分析，北京北方华创微电子装备有限公司共对外投资了7家企业，参与招投标项目1121次，财产线索方面有商标信息67条，专利信息5000条，此外企业还拥有行政许可340个。

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来源：市场资讯