PFA管在半导体行业有哪些关键应用

一、晶圆清洗

在12英寸晶圆的制造流程中，每片晶圆需要经历300-500次化学清洗。PFA管在这一环节承担着输送超纯试剂的重任：

-可耐受10%浓度的HF溶液持续冲刷

-内壁粗糙度Ra值小于0.05μm，避免颗粒滞留

-金属离子溶出量低于0.1ppb，满足先进制程需求

二、光刻工艺

在ArF浸没式光刻机的配套系统中，PFA管负责输送关键的显影液：

-对PMMA光刻胶的溶出量小于0.001%

-可在60℃恒温环境下保持稳定流量

-内壁静电值控制在100V以下，防止颗粒吸附

三、刻蚀与薄膜沉积

在反应离子刻蚀（RIE）设备中，三氟莱PFA管需要承受以下严苛条件：

-200℃高温下的Cl₂/Ar等离子体冲刷

-50mTorr真空环境中的分子渗透

-每日20次以上的冷热循环冲击

四、超纯水系统

半导体级超纯水（UPW）的制备和输送堪称工程奇迹：

-电阻率达到18.2MΩ·cm 25℃

-总有机碳（TOC）低于5ppb

-颗粒计数（≥0.2μm）少于1个/mL

五、尾气处理

在废气处理系统中，PFA管承担着输送腐蚀性气体的重任：

-对NF₃的渗透率低于0.001g/m²·day

-可耐受-196℃的液氮速冻处理

-爆破压力超过10MPa，确保极端工况安全

三氟莱，高纯氟塑料制品生产厂家，半导体工厂高纯PFA管供应商。

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