成果推荐丨KrF光刻胶核心原料制备技术:乙氧基乙氧基苯乙烯+叔丁氧羰基苯乙烯,纯度98%

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技术背景

光刻胶又称光致抗蚀剂，是一种依靠高分子材料在特定波长光线下发生化学变化，从而进行选择性腐蚀，用以加工复杂结构的特殊化学品。

光刻加工在芯片、液晶显示以及光伏等众多行业中均有涉及，更被誉为二十世纪最伟大的工业技术之一。

据初步估算，光刻胶市场大约占据上述各行业总产值的 5%，在2020 年，其总市场规模达到了约 500 亿人民币。

不过，该市场基本被日本、韩国以及美国所瓜分。作为电子加工化学品行业里技术含量极高的产品，光刻胶正逐渐受到国内企业的关注，研发投入的规模也在逐年递增。

鉴于光刻胶行业独特的性质，当下若要在国内推出自主的品牌，面临着较大的挑战。但得益于多年来的积累，现阶段对于光刻胶中间体的开发以及规模化生产已显得刻不容缓。

在光刻胶市场中，占比最大的是 248nm 光刻胶（也被称为 KrF 或深紫外光刻胶），其占比超过 30%，主要应用于存储芯片以及部分运算芯片的加工领域。

目前，248nm 光刻胶的市场价格约为 30 万 / 吨，每年的总需求量大概在 1 万吨左右。

其所使用的树脂为聚对羟基苯乙烯衍生物，年总市场需求量约为 1000 吨，然而其全部产能分布在日本、韩国和美国，国内的产量极少。

248nm 光刻胶所用树脂主要是通过羟基保护苯乙烯单体进行单聚或者共聚，并对结构加以修饰，从而获得符合要求的树脂化合物。

其中涵盖了叔丁氧基苯乙烯、乙酰氧基苯乙烯、乙氧基乙氧基苯乙烯 + 叔丁氧羰基苯乙烯等单体。

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技术简介

本技术将合成 248nm 光刻胶用树脂的中间体作为突破口，专注于乙氧基乙氧基苯乙烯 + 叔丁氧羰基苯乙烯的制备工艺。

在工艺路线方面，采用羟基苯乙烯分别与乙烯基乙醚和 BOC 酸酐发生反应，随后通过高真空提纯来获取成品。所制得成品的纯度能够达到 98%。

经过检测，本技术产品具备出色的稳定性、适应性以及可靠性，品质已达到国际先进水平，具备出口的条件。

业内专家估算：生产原料成本约为 500 元/公斤。而当前每公斤产品的售价在 3000 至 5000 元之间。由此可见，本技术利润颇为丰厚，经济效益不言而喻。

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技术优势

1. 纯度98%，品质达到国际先进水平，具备出口的条件；

2. 利润丰厚：经估算，生产原料成本在每公斤500元左右。而目前每公斤产品售价3000到5000元。

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技术成熟度

已通过中试

同系列单体，如：乙酰氧基苯乙烯已开启小规模生产进程，叔丁氧基苯乙烯、邻乙酰氧基苯乙烯均已通过中试，3-甲基-4-乙酰氧基苯乙烯，3,5-二乙酰氧基苯乙烯在研发中。

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合作方式

合作开发