设备商东京威力获利飙新高，新盖两座厂冲产能！

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2018 04 26

星期四

来源：Flickr

原题目：存储器设备商东京威力获利飙新高，盖2座厂冲产能

半导体设备厂商东京威力科创（Tokyo Electron Limited）25日于日股盘后公布上年度（2017年度、2017年4月至2018年3月）财报：因数据中心用存储器需求大增，提振芯片制造设备销售强劲，加上平面显示器（FPD）制造设备销售也大增，激励合并营收年增41.4%至11,307.28亿日元，合并营益暴增80.6%至历史新高的2,811.72亿日元，合并纯益也暴增77.4%至历史新高的2,043.71亿日元。

东京威力指出，DRAM供需紧绷，DRAM厂进行大规模设备投资，加上厂商增产3D架构NAND型快闪存储器（Flash Memory），提振上年度芯片制造设备销售额大增40.7%至10552亿日元；另外，因中国扩大电视用大尺寸液晶面板的设备投资，加上移动设备用中小尺寸面板的设备投资持续热络，提振上年度FPD制造设备销售额大增52.0%至750亿日元。

来源：东京威力

展望今年度（2018年度、2018年4月至2019年3月）业绩，东京威力表示，因看好存储器需求将持续旺盛，预估合并营收将年增23.8%至1.4万亿日元，合并营益将大增30.2%至3,660亿日元，合并纯益将大增32.1%至2,700亿日元，营益、纯益将续创历史新高纪录。

东京威力预估今年度芯片制造设备销售额将年增22.1%至12,880亿日元，FPD制造设备销售额将年增49.2%至1,120亿日元。

路透社指出，分析师平均预估东京威力上年度、今年度营益将为2,769亿日元、3,295亿日元，东京威力公布的数值皆高于市场预期。

东京威力并于25日宣布，为了因应今后存储器需求持续扩大，将增产芯片制造设备，计划投资260亿日元兴建2座新工厂。其中位于山梨事业所内的新厂房将在2019年1月动工，2020年4月完工；位于东北事业所的新厂房将在2018年10月动工，第一期工程预计2019年9月完工，第2期工程预计2020年12月完工。

上述位于山梨事业所的新厂将生产成膜设备和蚀刻设备、东北事业所新厂将生产热处理成膜设备。

日经新闻报导，上述新厂完工量产后，所生产的设备产能最高将增至2倍。东京威力会计部部长世川谦指出，数据中心用DRAM供需非常紧绷，且此种情况似乎仍不会发生变化。

来源：MoneyDJ

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